[发明专利]一种覆晶薄膜基板及其制作方法和显示面板在审

专利信息
申请号: 201410260846.9 申请日: 2014-06-12
公开(公告)号: CN104049393A 公开(公告)日: 2014-09-17
发明(设计)人: 黄世帅 申请(专利权)人: 深圳市华星光电技术有限公司
主分类号: G02F1/13 分类号: G02F1/13;G02F1/1333
代理公司: 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 代理人: 刁文魁;唐秀萍
地址: 518132 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 薄膜 及其 制作方法 显示 面板
【说明书】:

技术领域

发明属于显示器技术领域,尤其涉及一种覆晶薄膜基板及其制作方法和显示面板。

背景技术

TFT-LCD(Thin Film Transistor Liquid Crystal Display,薄膜晶体管液晶显示器)面板在正常显示时,需要使用COF基板(chip on film,覆晶薄膜)连接PCB板(Printed Circuit Board,印刷电路板)和液晶面板,从而可以使得PCB板上的信号能够导通到面板中。

如图1所示,在COF基板1上设置焊接引线2,在焊接引线2上涂布保护层3。由于铜具有良好的导电导热性能以及有良好的柔韧性,因此铜常作为制作焊接引线的材料。在COF基板上会留出未涂布保护层3的焊接引线用于焊接到液晶面板的焊接引线。

在模组阶段,COF完成焊接后会在液晶面板的薄膜晶体管侧涂布一层tuffy树脂胶,用于防止液晶面板焊接引线的腐蚀,比如被H2O、离子等腐蚀。然而,由于制程限制一般不会在COF背面做tuffy树脂胶涂布的动作,如图2所示,因此COF上的焊接引线会有一部分裸露在空气中,虽然铜抗腐蚀性较强,不会被水蒸气腐蚀,但是在有离子存在的环境下会发生电化学反应,会被腐蚀掉。特别是在氯离子存在的状态下,由于氯离子有很强的穿透性和容易水解成酸的特性,因此大大加快了下述的电化学反应,形成点蚀和坑蚀,严重情况下会使得裸露的铜断裂,影响信号的传输。电化学反应如下所示:

O2+H2O+2e-→2OH-

发明内容

本发明的目的在于提供一种覆晶薄膜基板及其制作方法和显示面板,旨在解决现有技术中存在的COF上焊接引线会有一部分裸露在空气中,但是在有离子存在的环境下会发生电化学反应,会被腐蚀掉,从而影响信号的传输的问题。

本发明是这样实现的,一种覆晶薄膜基板的制作方法,所述覆晶薄膜基板通过阵列基板上的端子走线向所述阵列基板传输驱动信号,所述覆晶薄膜基板的制作方法包括以下步骤:

提供一基板,在所述基板上设置焊接引线;

在所述焊接引线的预设位置上涂布保护层;以及

在未涂布所述保护层的所述焊接引线上形成金属薄膜保护层;

其中,当所述覆晶薄膜基板的焊接引线与所述阵列基板上的端子走线连接后,所述金属薄膜保护层设置在未与所述阵列基板上的端子走线连接的所述焊接引线上。

所述覆晶薄膜基板的制作方法还包括以下步骤:

在与所述阵列基板上的端子走线连接的所述焊接引线上形成所述金属薄膜保护层。

所述金属薄膜保护层的金属材料的金属活泼性,高于等于所述焊接引线的金属材料的金属活泼性。

所述金属薄膜保护层的厚度大于等于所述焊接引线的厚度。

本发明的另一目的在于提供一种覆晶薄膜基板,所述覆晶薄膜基板通过阵列基板上的端子走线向所述阵列基板传输驱动信号,所述覆晶薄膜基板包括:

一基板;

焊接引线,所述焊接引线设置于所述基板表面上;

一保护层,所述保护层设置于所述焊接引线的预设位置上;以及

一金属薄膜保护层,所述金属薄膜保护层设置于未涂布保护层的焊接引线上;

其中,当所述覆晶薄膜基板的焊接引线与所述阵列基板上的端子走线连接后,所述金属薄膜保护层设置在未与所述阵列基板上的端子走线连接的所述焊接引线上。

所述金属薄膜保护层还设置在与所述阵列基板上的端子走线连接的所述焊接引线上。

所述金属薄膜保护层的金属材料的金属活泼性,高于等于所述焊接引线的金属材料的金属活泼性。

所述金属薄膜保护层的厚度大于等于所述焊接引线的厚度。

本发明的另一目的在于提供一种显示面板,所述显示面板包括:

一彩色滤光片;

一阵列基板;所述阵列基板设置于所述彩色滤光片上;

端子走线,所述端子走线设置于所述阵列基板上,所述端子走线与焊接引线电性连接;

一基板;

所述焊接引线,所述焊接引线设置于所述基板表面上;

一保护层,所述保护层设置于所述焊接引线的预设位置上;以及

一金属薄膜保护层,所述金属薄膜保护层设置在未与所述阵列基板上的端子走线连接的所述焊接引线上。

所述金属薄膜保护层还设置在与所述阵列基板上的端子走线连接的所述焊接引线上。

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