[发明专利]氧化锆插芯内孔研磨用双峰磨料研磨液配方在审

专利信息
申请号: 201410258437.5 申请日: 2014-06-11
公开(公告)号: CN104164210A 公开(公告)日: 2014-11-26
发明(设计)人: 董良成 申请(专利权)人: 天津美嘉怡光电子器件有限公司
主分类号: C09K3/14 分类号: C09K3/14
代理公司: 天津才智专利商标代理有限公司 12108 代理人: 王顕
地址: 300385 天津市西青区天津*** 国省代码: 天津;12
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摘要:
搜索关键词: 氧化锆 插芯内孔 研磨 双峰 磨料 配方
【说明书】:

技术领域

发明涉及氧化锆研磨领域领域,特别是涉及一种氧化锆插芯内孔研磨用双峰磨料研磨液配方。 

背景技术

氧化锆(ZrO2)自然界的氧化锆矿物原料,主要有斜锆石和锆英石。锆英石系火成岩深层矿物,颜色有淡黄、棕黄、黄绿等,比重4.6—4.7,硬度7.5,具有强烈的金属光泽,可为陶瓷釉用原料。纯的氧化锆是一种高级耐火原料,其熔融温度约为2900℃它可提高釉的高温粘度和扩大粘度变化的温度范围,有较好的热稳定性,其含量为2%-3%时,能提高釉的抗龟裂性能。还因它的化学惰性大,故能提高釉的化学稳定性和耐酸碱能力,还能起到乳浊剂的作用。在建筑陶瓷釉料中多使用锆英石,一般用量为8%—12%。并为“釉下白”的主要原料,氧化锆为黄绿色颜料良好的助色剂,若想获得较好的钒锆黄颜料必须选用质纯的氧化锆。 

智研数据研究中心调查表示:自然界的氧化锆矿物原料,主要有斜锆石和锆英石。氧化锆材料具有高硬度,高强度,高韧性,极高的耐磨性及耐化学腐蚀性等等优良的物化性能,氧化锆已经在陶瓷、耐火材料、机械、电子、光学、航空航天、生物、化学等等各种领域获得广泛的应用。 

纯净的氧化锆是白色固体,含有杂质时会显现灰色或淡黄色,添加显色剂还可显示各种其它颜色。纯氧化锆的分子量为123.22,理论密度是5.89g/cm3,熔点为2715℃。通常含有少量的氧化铪,难以分离,但是对氧化锆的性能没有明显的影响。氧化锆有三种晶体形态:单斜、四方、立方晶相。常温下氧 化锆只以单斜相出现,加热到1100℃左右转变为四方相,加热到更高温度会转化为立方相。由于在单斜相向四方相转变的时候会产生较大的体积变化,冷却的时候又会向相反的方向发生较大的体积变化,容易造成产品的开裂,限制了纯氧化锆在高温领域的应用。但是添加稳定剂以后,四方相可以在常温下稳定,因此在加热以后不会发生体积的突变,大大拓展了氧化锆的应用范围。 

由于氧化锆材料具有高硬度,高强度,高韧性,极高的耐磨性及耐化学腐蚀性等等优良的物化性能,氧化锆已经在陶瓷、耐火材料、机械、电子、光学、航空航天、生物、化学等等各种领域获得广泛的应用。 

基于氧化锆材料具有上述特性,因此该材料非常难以研磨加工。 

金刚石研磨膏是由金刚石微粉磨料和膏状结合剂制成的一种软质磨具,也可称为松散磨具。它用于研磨硬脆材料以获得高的表面光洁度。研磨的特点是在研磨过程中磨料不断滚动,产生挤压和切削两种作用,使凸凹表面渐趋平整光滑。研磨膏的结合剂分油性与水溶性。如PCB线路板行业,在做金相过程中,取样研磨加如一定细度的研磨膏(0.3um),使其样品镶嵌后用于观测的横截面,在显微镜下更加清晰到达测试的标准。 

根据溶剂分金刚石研磨膏分为水溶性研磨膏和油溶性研磨膏,规格:W0.25W0.5W1W1.5W2.5W3.5W5W7W10W14W20W28W40。 

油溶研磨膏润湿性好,磨削力、磨削热小、主要用于加工光洁度高硬质合金等高硬合金材料的零件,仪器仪表、量具、刃具、磨具等。水溶研磨膏粘度小,易排削、加工效率高,主要用于加工稍腐蚀金属,线路板,玻璃、陶瓷、宝石、玛瑙等非金属硬脆材料制品。 

金刚石研磨膏均采用进口高品级大颗粒金刚石晶体为原料,采用最先进的粉体制备技术分选出粒度分布极窄的金刚石微粉(纳米和微米级),严格受 控的纳米和微米级的单晶金刚石晶形控制系统,让每一颗粒子的近似圆值都近乎完美,成功参与研磨与抛光过程,得到更高质量再现性。金刚石均匀分布在膏状载体中,具有自润滑功能,适用于手动精抛光,合适硬度低的样品。可以对表面不规则(凹槽等)的金相试样材料进行快速抛光,使用方便。 

人造金刚石研磨膏是用精选优质金刚石微粉磨料和膏状结合剂,着色剂,防腐剂,香精等制成的一种软磨膏,适用于玻璃、陶瓷,宝石,硬质合金等高硬度材料制品的量具、刃具光学仪器及其他高光洁度工件的研磨,抛光加工。也适用于上述材料制成的难以用砂轮工具加工的异型工件。 

膏体分水溶和油溶两种,具有很好的润滑和冷却性能。金刚石微粉强度高,粒度均匀磨削效果好。 

研磨膏的主要应用:钨钢模具、光学模具、注塑模具等研磨抛光;金相分析实验过程中的研磨抛光;牙科材料(义齿)研磨抛光;珠宝首饰、玉石工艺品研磨抛光;光学镜片、硬质玻璃和晶体、超硬陶瓷和合金等领域的研磨抛光。 

然而光通讯领域氧化锆材料配件的研磨精度要求很高,单纯使用金刚石研磨膏无法满足领域特殊需要。 

发明内容

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