[发明专利]一种用于靶点焦斑整形和光束匀滑的激光设备

权利要求书

1.一种用于靶点焦斑整形和光束匀滑的激光光路，其特征在于，包括，

入射激光束，凸透镜，相位板，靶面；其中，

所述相位板由单轴晶体构成，且所述单轴晶体被加工成前后表面与单轴晶体的光轴平行的晶体板，且所述晶体板前后表面的其中一面，其上有使用已有技术刻蚀的连续相位板面形；

所述入射激光束进入光路时与凸透镜表面垂直，且其偏振方向与单轴晶体光轴夹45度角；

所述相位板位于透镜和靶面之间并靠近透镜一侧，且其上刻蚀有连续相位板面形的一面与靶面相对；

所述入射激光束经凸透镜聚焦后形成聚焦光束，且

所述聚焦光束进入相位板后产生双折射现象，被分成强度相等的寻常光(o光)和非常光(e光)，且所述寻常光(o光)和非常光(e光)在出射时，光束上都带有连续相位板面形对应的相位分布，且

所述寻常光(o光)和非常光(e光)因折射率不同，使得寻常光(o光)和非常光(e光)的焦点在成像的位置上前后错开，且所述焦点之间的距离有位移差Δz；

所述靶面的位置取位移差Δz的中间值进行设置。

2.如权利要求1所述的一种用于靶点焦斑整形和光束匀滑的激光光路，其特征在于，所述相位板的制作方法为：

步骤1，确定所述单轴晶体的光轴方向，

步骤2，切割晶体，将所述单轴晶体前、后表面平行于单轴晶体光轴方向进行切割，得到晶体板，

步骤3，加工面形，将所述晶体板前、后表面的其中一面，使用已有连续相位板的面形加工技术进行刻蚀。

3.如权利要求1、2所述的一种用于靶点焦斑整形和光束匀滑的激光光路，其特征在于，所述相位板中寻常光(o光)和非常光(e光)的折射率不同，在出射后，寻常光(o光)和非常光(e光)之间有微小的偏移。

4.如权利要求1、2、3所述的一种用于靶点焦斑整形和光束匀滑的激光光路，其特征在于，所述寻常光(o光)和非常光(e光)因相位板的折射，而产生焦点后移，且因寻常光(o光)和非常光(e光)的折射率不同，其所述焦点后移量也不同，从而使得寻常光(o光)和非常光(e光)的焦点在成像位置上前后错开，且焦点之间的距离有位移差Δz。

5.如权利要求1、2、3、4所述的的一种用于靶点焦斑整形和光束匀滑的激光光路，其特征在于，所述靶面上寻常光(o光)和非常光(e光)的分布不同，且寻常光(o光)和非常光(e光)的偏振态相互垂直，最终的焦斑分布为两束光错位后的非相干叠加。