[发明专利]阵列基板、制作方法及液晶显示面板无效

专利信息
申请号: 201410239050.5 申请日: 2014-05-30
公开(公告)号: CN104020593A 公开(公告)日: 2014-09-03
发明(设计)人: 徐向阳 申请(专利权)人: 深圳市华星光电技术有限公司
主分类号: G02F1/1333 分类号: G02F1/1333;G02F1/1343
代理公司: 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 代理人: 刁文魁;唐秀萍
地址: 518132 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 阵列 制作方法 液晶显示 面板
【说明书】:

技术领域

发明涉及显示技术领域,特别是涉及一种阵列基板、制作方法及液晶显示面板。

背景技术

薄膜晶体管液晶显示面板作为低碳绿色环保型显示器件,已广泛应用到人们的生产生活中。随着显示技术的发展,产品质量与产品成本成为液晶显示面板的制造企业的竞争动力。

对于面板厂商而言,为了降低产品的生产成本,一般会尽可能的减少面板中驱动芯片的使用数量,如通过增加走线长度使得每个驱动芯片可以驱动尽可能多的元件,因此在大尺寸液晶显示面板中,一般会采用双层金属走线的设计来降低走线长度过长带来的线电阻过大的技术问题。

现有的双层金属走线的具体结构请参照图1,图1为现有的液晶显示面板的阵列基板的结构示意图。为了便于说明,图中的结构的具体尺寸按说明的需要进行了修改。其中图1中的101为基板,102为第一绝缘层,103为第二绝缘层,104为第一金属层,105为第二金属层,106为像素电极层,其中106也可为用于内部连接的电极(如连接第一金属层104和第二金属层105等)或用于与外部连接的电极(如与驱动芯片连接等)。

按该阵列基板的各部分的功能将该阵列基板分为五个部分,其中A区为薄膜场效应晶体管,B区为像素电极,C区为跳线区(即实现两个金属层的连接),D区为走线的扇出区域,E区为与驱动芯片连接的连接区域。

D区通过第一金属层104和第二金属层105进行走线,可很好的避免走线的线电阻过大的问题。但是由于第二金属层105一般设置非平面膜上,即第二金属层105的下方往往不平整,这样容易导致第二金属层105的断裂,从而导致D区的走线无法正常传输信号,同时该缺陷在阵列基板的制作过程中难以发现影响,大大影响了液晶显示面板的显示品质。

故,有必要提供一种阵列基板、制作方法及液晶显示面板,以解决现有技术所存在的问题。

发明内容

本发明的目的在于提供一种阵列基板、制作方法及液晶显示面板,以解决现有的阵列基板中作为走线的第二金属层易断裂,从而导致相应的液晶显示面板的显示品质下降的技术问题。

为解决上述问题,本发明提供的技术方案如下:

本发明实施例提供一种阵列基板,其包括:

基板衬底;

第一金属层,位于在所述基板衬底上,包括扫描线以及薄膜场效应晶体管的栅极区;

第一绝缘层,部分位于所述第一金属层上;

半导体层,位于所述第一绝缘层上;

第二金属层,位于所述半导体层上,包括所述薄膜场效应晶体管的源极区、所述薄膜场效应晶体管的漏极区、数据线以及走线;

透明电极层,包括:

像素电极,用于与所述漏极区连接;以及

加固部,覆盖在所述走线上;以及

第二绝缘层,位于所述透明电极层以及所述薄膜场效应晶体管上。

在本发明所述的阵列基板中,所述透明电极层还包括:

内部连接电极,用于连接所述第一金属层和所述第二金属层。

在本发明所述的阵列基板中,所述透明电极层还包括:

外部连接电极,用于连接所述第一金属层与所述驱动芯片,以及连接所述第二金属层与所述驱动芯片。

本发明实施例还提供一种阵列基板的制作方法,其包括:

A、形成分层结构于基板衬底上,所述分层结构为第一金属层;

B、对所述分层结构进行图形化处理,以形成扫描线以及薄膜场效应晶体管的栅极区;

C、在所述分层结构上依次形成第一绝缘层、半导体层以及第二金属层;

D、对所述分层结构进行图形化处理,以形成所述薄膜场效应晶体管的源极区、所述薄膜场效应晶体管的漏极区、数据线以及走线;

E、在所述分层结构上形成透明电极层;并对所述分层结构进行图形化处理,以形成像素电极以及覆盖在所述走线上的所述加固部;以及

F、在所述分层结构上形成第二绝缘层,并对所述分层结构进行图形化处理,以对透明电极层和所述薄膜场效应晶体管进行覆盖。

在本发明所述的阵列基板的制作方法中,所述步骤E还包括:

在所述分层结构上形成透明电极层;并对所述分层结构进行图形化处理,以形成内部连接电极;

其中所述内部连接电极用于连接所述第一金属层和所述第二金属层。

在本发明所述的阵列基板的制作方法中,所述步骤E还包括:

在所述分层结构上形成透明电极层;并对所述分层结构进行图形化处理,以形成外部连接电极;

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