[发明专利]一种防蓝光光学镜片的制造方法有效

专利信息
申请号: 201410238603.5 申请日: 2014-05-30
公开(公告)号: CN103984120A 公开(公告)日: 2014-08-13
发明(设计)人: 吴晓彤 申请(专利权)人: 奥特路(漳州)光学科技有限公司
主分类号: G02C7/10 分类号: G02C7/10;G02B1/10;C23C14/30;C23C14/08;C23C14/10;C23C14/18
代理公司: 福州君诚知识产权代理有限公司 35211 代理人: 戴雨君
地址: 360000 福建省漳*** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: 一种 防蓝光 光学镜片 制造 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种防蓝光光学镜片的制造方法。

背景技术

人们已经知道紫外线对眼睛会造成伤害,长期的紫外线照射能引发白内障。同样,蓝光是波长为400~500nm的高能量可见光,蓝光是可以直接穿透眼角膜、眼睛晶体、直达视网膜,蓝光会刺激视网膜产生大量自由基离子,使得视网膜色素上皮细胞的萎缩,并引起光敏感细胞的死亡,视网膜色素上皮细胞对蓝光区域的光辐射吸收作用很强,吸收了蓝光辐射会使视网膜色素上皮细胞萎缩,这也是产生黄斑病变的主要原因之一;蓝光辐射成分越高对视觉细胞伤害越大,视网膜色素上皮细胞的萎缩,会使视网膜的图像变得模糊,对模糊的影像睫状肌会在做不断的调节,加重睫状肌的工作强度,引起视觉疲劳。在紫外线和蓝光的作用下会引起人们的视觉疲劳,视力会逐渐下降,易引起眼睛视觉上的干涩、畏光、疲劳等早发性白内障、自发性黄斑部病变。

目前市场上出售的光学镜片普遍功能单一,主要就是用于矫正视力无防蓝光和紫外线的功能,也没有适用于普通人群防蓝光和紫外线的平光镜片和光学镜片。

发明内容

本发明的目的在于提供一种防蓝光光学镜片的制造方法,该方法制造出来的防蓝光光学镜片具有防止有害蓝光和紫外线对人体的伤害,该防蓝光光学镜片同时还具有防油污和自主光学调控的功能。

为实现上述目的,本发明采用以下技术方案:

一种防蓝光光学镜片的制造方法,所述制造方法是在基片外表面和内表面分别蒸镀膜系形成防蓝光光学镜片,所述制造方法具体包括以下步骤:

1)对基片进行清洗;

2)基片清洗后的干燥:将清洗后的基片用异丙醇脱干,脱干后的基片采用异丙醇慢拉干燥;

3)基片镀膜前在真空蒸镀机的真空舱内的再次清洗:将异丙醇慢拉干燥后的基片置于真空蒸镀机的真空舱内,将真空舱内的真空度调整至小于或等于9.5×10-3帕,启动离子源对基片进行清洗;

4)基片的镀膜:基片的镀膜包括在基片的外表面镀膜系和在基片的内表面镀膜系;

A、基片的外表面镀膜系依序包括镀抗冲击强化膜层、镀抗紫外线膜层、镀防蓝光膜层、镀光学调控膜层、镀防油污膜层;

A1、镀抗冲击强化膜层:将真空舱内的真空度调整至小于或等于2.0×10-3帕,采用电子枪,将抗冲击强化膜层的膜材进行蒸发后,在离子源的作用下所述膜材以纳米级分子形式沉积于基片外表面,形成抗冲击强化膜层,抗冲击强化膜层的厚度为0.1-600纳米;所述抗冲击强化膜层的膜材为氧化硅;

A2、镀抗紫外线膜层:采用电子枪将抗紫外线膜层的膜材进行蒸发后,在离子源的作用下所述膜材以纳米级分子形式沉积于步骤A1中抗冲击强化膜层的表面,形成抗紫外线膜层,抗紫外线膜层的厚度为0.1-600纳米;所述抗紫外线膜层的膜材包括以下重量比组分的混合物:氧化硅20%-80%;氧化锆20%-80%;

A3、镀防蓝光膜层:采用电子枪将防蓝光膜层的膜材进行蒸发后,在离子源的作用下所述膜材以纳米级分子形式沉积于步骤A2中抗紫外线膜层的表面,形成防蓝光膜层,防蓝光膜层的厚度为0.1-600纳米;所述防蓝光膜层的膜材包括以下重量比组分的混合物:氧化锡30%-60%;铷10%-40%;铂10%-40%。

重复步骤A3至少一次以上,形成两层以上相互堆叠的防蓝光膜层;

A4、镀光学调控膜层:采用电子枪将光学调控膜层的膜材进行蒸发后,在离子源的作用下所述膜材以纳米级分子形式沉积于步骤A3中防蓝光膜层的表面,形成光学调控膜层,光学调控膜层的厚度为0.1-600纳米;所述光学调控膜层的膜材包括以下重量比组分的混合物:铝40%-60%;氧化硅40%-60%;

A5、镀防油污膜层:采用电子枪将防油污膜层的膜材进行蒸发后,在离子源的作用下所述膜材以纳米级分子形式沉积于步骤A4中光学调控膜层的表面,形成防油污膜层,防油污膜层的厚度为0.1-600纳米;所述防油污膜层的膜材包括以下重量比组分的混合物:氟化镁60%-80%;氧化锆20%-40%;

防油污膜层镀膜完成,基片的外表面镀膜系完成后,转入基片的内表面镀膜系;

B、基片的内表面镀膜系依序包括镀抗冲击强化膜层、镀抗紫外线膜层、镀防蓝光膜层、镀防油污膜层;

B1、镀抗冲击强化膜层:采用电子枪,将抗冲击强化膜层的膜材进行蒸发后,在离子源的作用下所述膜材以纳米级分子形式沉积于基片内表面表面,形成抗冲击强化膜层,抗冲击强化膜层的厚度为0.1-600纳米;所述抗冲击强化膜层的膜材为氧化硅;

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