[发明专利]带除害功能的真空泵

说明书

技术领域

本发明涉及在制造半导体设备、液晶、LED等的制造装置的排气系统中使用的真空泵，尤其涉及在用于对制造装置的腔室进行排气的真空泵上附加了用于对从腔室排出的废气进行处理而使之无害化的除害功能的带除害功能的真空泵。

背景技术

在制造半导体设备、液晶面板、LED、太阳能电池等的制造处理过程中，向被排气为真空的处理腔室内导入处理气体来进行蚀刻处理、CVD处理等各种处理。进行这些蚀刻处理、CVD处理等各种处理的处理腔室通过真空泵而被真空排气。而且，通过使清洗气体(cleaning gas)流过处理腔室以及与处理腔室连接的排气类设备而对其定期地清洗。这些处理气体和清洗气体等废气包含硅烷类气体(SiH₄、TEOS等)、卤素类气体(NF₃、ClF₃、SF₆、CHF₃等)、PFC气体(CF₄、C₂F₆等)等，会对人体带来不良影响，或成为地球变暖的原因等而对地球环境带来不良影响，因此，不希望上述废气直接排放至大气中。因此，将这些废气在经设置在真空泵下游侧的废气处理装置进行无害化处理之后，排放至大气中。

现有技术文献

专利文献1：日本专利第3305566号公报

在制造半导体设备、液晶面板、LED、太阳能电池等的制造处理过程中，使用了多种处理气体和清洗气体等。对这些多种处理气体和清洗气体等的废气进行处理的废气处理装置具有下列问题。

1)根据在半导体制造处理中使用的气体的类型(反应)以及气体的流量，针对各用户、各处理来分别制作装置的规格，并实施装置的评价后将其投放市场。该情况下，为了将废气处理至容许浓度以下，进行处理部、冷却部、粉末捕集部等的定制(与规格对应地变更)。由此，需要针对各用户、各处理而分别进行装置的设计、制作以及评价，需要大量的劳力，并且，会使装置成本上升。

2)处理装置通常由1个或者多个处理腔室构成，相对于各处理腔室而连接有1台(或者多台)干式真空泵，这些干式真空泵的各自的排气管线与废气处理装置连接。因此，废气处理装置实施多个处理腔室的废气处理，多个处理腔室按腔室各自的处置(recipe)不同，所以所使用气体的类型、使气体流动的时间也不同。因此，若考虑流入至废气处理装置中的气体的类型、气体量的模式，则存在无数种组合，若要求装置具有能够应对这些全部组合的处理性能，则会导致过剩性能(超规格)。

3)由于废气从以多个腔室运用的装置流入至废气处理装置，所以，废气处理装置的处理能力受到使用条件的左右。因此，需要选定与使用条件相符或涵盖了设想的使用条件的废气处理装置的硬件设定、公共管网(utility)设备设定、软件设定，从而针对处置改变、处理改变难以进行灵活且迅速的应对。

4)废气处理装置的规格通常为，通过1个除害装置综合处理多个腔室，在该情况下，存在无法避免废气处理装置的大型化的状况。由于废气处理装置的大型化，基于工厂的设置场所的情况，废气处理装置大多设置在离干式真空泵具有某种程度距离的位置处。在如产生生成物那样的处理的情况下，若排气管线长则生成物发生堆积的情况就多，并且，因为排气管线需要维护，所以会对处理装置的停机时间产生影响。生成物的堆积会引起干式真空泵的背压上升，成为泵故障的原因之一。

5)以抑止产生升华生成物为目的，需要在排气管线的配管上施加加热器，从而会对加热器的初始成本和运转成本、安装作业时间产生影响。排气管线维护时的加热器的修复也会对处理停机时间产生影响。

6)施加在配管上的加热器通常使用了在加热器的内部组装有加热线的夹套型的加热器，但是，通过设置在加热线或者加热对象部件表面的热电偶来进行对于控制所必要的温度的监视。在一点上的温度控制无法避免加热对象的温度分布的不均，为了使其尽可能地均一化，测定结果的反馈和再制作等的设计耗力大。另外，在相对于长的配管进行加热器施工的情况下，以温度均一化为目的通常需要进行加热器的细分等，结果是会产生加热器的复杂的独立控制和配线的复杂化。由此，也会成为安装作业劳力的增大和初始成本等增加的主要原因。