[发明专利]一种纳米银线透明导电膜的生产方法

说明书

技术领域

本发明涉及透明导电膜的技术领域，尤其是涉及一种纳米银线透明导电膜的生产方法。

背景技术

现有技术中，纳米银线透明导电膜的生产方法非常复杂，如中国发明专利申请号为“201110394764.X”、专利名称为“一种纳米银透明电极材料及其制备方法”的中国发明专利申请所示，还有中国发明专利申请号为“201210190604.8”、专利名称为“柔性透明导电膜及其制造方法”的中国发明专利申请所示。上述两个专利所揭示的纳米银线透明导电膜的工艺要求非常高，它要先分别配制透明油墨和纳米银线分散液，再将纳米银线分散液等附着于离型膜或中间转印膜形成一纳米银线层，还需要在透明膜基材上涂布增粘层或透明油墨层，还需要分别干燥后再进行热压转印，现有技术的生产工艺存在多个方面缺点，第一，生产难度非常较大，生产成本较高，它无法很好地控制纳米银线的均匀度和平整度，第二，通过转印和热压工艺将纳米银线层粘固在透明膜基材，纳米银线层易分离和剥落，纳米银线层和透明膜基材之间易分层，第三，通过转印和热压工艺将纳米银线层粘固在透明膜基材，其结合面形成一个光学界面，它会大幅度降低导电膜的透光率，纳米银线透明导电膜的导电率也很难以控制和实现，成品良品率较低。

其中，涂布于离型膜上纳米银线分散液在干燥后，露出在上表面的纳米银线远多于露出在底面的纳米银线，但是，在经过转印后，原来露出在上表面的纳米银线贴附在透明膜基材的增粘层或透明油墨层，透明膜基材上露出在最外表面的纳米银线反而变得更少，因此其导电率难以控制和实现，因此有必要予以改进。

发明内容

针对现有技术存在的不足，本发明的目的是提供一种纳米银线透明导电膜的生产方法，它工艺简单，易于实施，容易控制导电膜的品质，生产出来的纳米银线透明导电膜透光率为85～92％、雾度小于等于2％，表面电阻率为50～500ohm/sq。

为了实现上述目的，本发明所采用的技术方案是。

一种纳米银线透明导电膜的生产方法，包括以下步骤：

透明基材，透明基材选用PC膜、PET膜或由三层共挤工艺制成的PMMA-PC-PMMA三层复合膜；

调制纳米银线涂布液，将纳米银线均匀搅拌于固体含量为1～30％的胶水中，制得纳米银线涂布液，其中，

胶水的平均粒径为1～25nm，

胶水的粘度为2～50cps，

纳米银线的直径小于等于30nm，

纳米银线的长度为5～100μm，

1Kg纳米银线涂布液中含有1～10g纳米银线；

放卷，通过涂布机放卷出透明基材；

涂布，通过涂布机的涂布机构在透明基材的表面均匀涂布纳米银线涂布液；

干燥，基材通过涂布机的烘干箱，在烘干箱内完成烘干和干燥，纳米银线涂布液固化后形成一牢固粘覆在透明基材的表面的纳米银线层，纳米银线均匀分布于纳米银线层中，各纳米银线相互搭接而电性导通；纳米银线涂布液在固化过程中表面下降，顶层的纳米银线则凸显在纳米银线层的表面；

收卷，通过涂布机的收卷机构收卷；

成品，制成透光率为85～92％、雾度小于等于2％，表面电阻率为50～500ohm/sq的纳米银线透明导电膜。

进一步的技术方案中，所述透明基材的总厚度为81～500μm，纳米银线层的厚度为10nm～50μm。

进一步的技术方案中，所述PET膜选用单面经过硬化处理或双面经过硬化处理的PET膜。

进一步的技术方案中，所述PMMA-PC-PMMA三层复合膜的上层和下层均为PMMA层，中间层为PC层，PC层与两个PMMA层通过三层共挤工艺成型为一体。

于优选的技术方案中，所述调制纳米银线涂布液步骤，

胶水的固体含量为1～10％，

胶水的平均粒径为1～15nm，

胶水的粘度为2～40cps，

纳米银线的直径小于等于25nm，

纳米银线的长度为10～50μm，

1Kg纳米银线涂布液中含有1～5g纳米银线，

纳米银线层的厚度为10nm～50μm。

于另一优选的技术方案中，所述调制纳米银线涂布液步骤，

胶水的固体含量为1～10％，

胶水的平均粒径为1～15nm，

胶水的粘度为2～40cps，

纳米银线的直径小于等于25nm，

纳米银线的长度为10～50μm，

1Kg纳米银线涂布液中含有5～10g纳米银线，