[发明专利]离子体反应腔室电极间隙调整装置及离子体反应腔室

权利要求书

1.一种电极间隙调整装置，所述电极位于等离子体反应腔室内，所述电极包括上电极和下电极，其特征在于，包括上电极升降装置，所述上电极升降装置包括上固定板、升降板、下固定板、导向支撑杆、螺杆和滑动杆，所述上固定板和下固定板相对平行设置，所述升降板平行的设置在所述上固定板和下固定板之间；所述导向支撑杆和所述螺杆垂直安装在所述上固定板和下固定板之间，并均匀分布在以所述上固定板的中心为圆心、以一定距离为半径的圆上；所述滑动杆设置在所述升降板和上电极之间。

2.根据权利要求1所述的电极间隙调整装置，其特征在于，所述螺杆的上端和下端通过轴承分别固定在所述上固定板和下固定板上，其上端连接有驱动手柄或步进电机；所述升降板与所述导向支撑杆之间通过移动法兰相配合，所述升降板与所述螺杆之间通过调节螺母相配合，所述移动法兰和所述调节螺母均固定在所述升降板上。

3.根据权利要求2所述的电极间隙调整装置，其特征在于，所述上电极升降装置还包括真空波纹管，该真空波纹管设置在所述升降板和下固定板之间，其上端通过上法兰固定在所述升降板上，下端通过下法兰固定在所述下固定板上。

4.根据权利要求3所述的电极间隙调整装置，其特征在于，所述滑动杆的上端通过绝缘法兰固定在所述升降板的中心位置，其下端固定连接在所述上电极上，所述滑动杆的上部位于所述真空波纹管内，下部位于所述反应腔室内。

5.一种等离子体反应腔室，包括腔室主体、布气装置、上电极和下电极，其特征在于还包括权利要求1-4任一项所述的电极间隙调整装置。

6.根据权利要求5所述的等离子体反应腔室，其特征在于，所述腔室主体包括壳体和腔室主体盖板，所述上电极升降装置位于所述腔室主体上侧，并固定安装在所述腔室主体盖板上。

7.根据权利要求6所述的等离子体反应腔室，其特征在于，在所述腔室主体盖板上设置有进气管适配孔和腔室主体盖板中心孔，所述腔室主体盖板中心孔位于所述腔室主体盖板的中心位置，所述进气管适配孔位于以所述腔室主体盖板的中心为圆心、以一定距离为半径的圆上，设置有多个，且均匀布置。

8.根据权利要求5所述的等离子体反应腔室，其特征在于，所述布气装置主体为环盘形，在其上表面上设置有进气管；在所述布气装置的下表面上设置有呈放射状分布的通气孔。

9.根据权利要求5所述的等离子体反应腔室，其特征在于，还包括下电极承载装置，在所述下电极承载装置内设有冷却槽。

10.根据权利要求9所述的等离子体反应腔室，其特征在于，所述下电极承载装置包括上承载部和下承载部，在所述上承载部和下承载部之间设置有所述冷却槽，所述下承载部内部设置有冷却液通道。