[发明专利]一种无公害苦瓜的种植方法

说明书

技术领域

本发明涉及农产品栽培领域，具体涉及一种无公害苦瓜的种植方法。 

背景技术

苦瓜又名凉瓜，是葫芦科植物，为一年生攀缘草本。茎、枝、叶柄及花梗披有柔毛，腋生卷须。叶子的直径达3至12厘米，有5至7道掌状深裂，裂片呈椭圆形，外沿有锯齿。春夏之交开花，雌雄同株，黄色。果实长椭圆形，表面具有多数不整齐瘤状突起。种子藏于肉质果实之中，成熟时有红色的囊裹着。苦瓜是人们喜爱的一种蔬菜，在南亚、东南亚、中国、和加勒比海群岛均有广泛的种植。特别是我们国家，很多南方城市的主要农作物主要是苦瓜，经济来源也主要是苦瓜。 

每100克苦瓜中，水分占94％，含蛋白质1克、碳水化合物3.7克，能提供71.2千焦的热量。苦瓜含有一种具有抗氧化作用的物质，这种物质可以强化毛细血管，促进血液循环，预防动脉硬化。苦瓜还具有清热解暑、消肿解毒的功效。苦瓜全身是宝，其根、茎、叶、花、果及种子在世界各地都有药用的记载，本草纲目就称:苦瓜“苦寒、无毒、除邪热、解劳乏、清心明目、益气壮阳”；国内外学者也报道了苦瓜具有降血糖、抗菌、消炎、抗病毒、提高机体免疫力及堕胎、抗生育等作用，而特别是对苦瓜在防肿瘤方面所起的作用更为关注。 

传统栽培技术中大量使用化肥、传统农药，导致产出的苦瓜随 着农残较多，人们经常食用这样的苦瓜对身体会带来不利影响。 

发明内容

本发明的发明目的在于：针对上述存在的问题，提供一种无公害苦瓜的栽培方法，从选地到施肥、病虫害防治几个方面采用无公害技术栽培苦瓜，所收获苦瓜果实大小均匀，表皮光滑，无污染，商品性大幅度提高。 

本发明采用的技术方案如下： 

一种无公害苦瓜的种植方法，具体包括以下几个方面的内容： 

(1)选种育苗：选择瓜蔓短、节间短、叶片小、抗逆性强、早熟、丰产、耐贮的苦瓜优良品种； 

①配制育苗基质：以草木灰和蛭石按体积比2:1的比例混合为混合基质，1立方米混合基质中再配入10千克烘干鸡粪，混合均匀成为育苗基质；采用石灰氮通过均匀撒施的方式施加到育苗基质里进行消毒，对育苗基质进行农膜密封覆盖使湿度保持在65～75％，覆盖5～8天； 

②作畦、制钵：选择干燥、背风向阳、排灌方便的冬闲田作苗床；整地、开沟、作畦，畦宽1.2～1.3米，用制钵器将育苗基质打制成直径10厘米、种孔深1厘米左右的营养钵；均匀排钵，然后浇透水1次； 

③种子处理：用50％的多菌灵可湿性粉剂与水按照重量比为1∶500～800的比例稀释，然后保持温度40℃左右催芽8～12小时； 

④精细播种：苗床播种量为每钵2粒，人工手播深1厘米，播种 后立即覆盖厚1～2厘米的育苗基质，盖满整个营养钵；随后立即覆盖地膜； 

⑤苗期管理：出苗前，温度保持在白天25℃～30℃，夜晚15℃～20℃；出苗后，白天20℃～25℃，夜晚15℃～18℃；定植前5～7天，白天25℃～28℃，夜晚18℃～10℃；苗床每天早晨或傍晚用喷壶喷水1-2遍，以防基质板结、干燥；待幼苗子叶破土，出苗20％～30％时，揭去地摸；如果幼苗长势弱，用腐熟稀薄人畜粪尿浇施1～2次； 

(2)整地定植 

①整地作垄：选择三年以上未种植过葫芦科作物地块，耕翻晒垡，精细整地作垄，垄高30～35厘米，垄宽50厘米，垄间距2米，南北向排列，四周开挖围沟与渠道相通； 

②施足底肥：每亩施用优质圈肥5000～6000公斤、磷酸二铵10公斤、硫酸钾13～15公斤，将栽培基质翻匀整平，并浇1次水，使基质充分吸水； 

③适时定植：幼苗有3叶1心时定植，定植密度每亩450～470穴，定植后当即浇1次定根水，以后2～3天内，每天补水2次，直至成活； 

(3)大田管理 

①温度管理：开花前，棚室内昼温保持在20-25℃，夜温13-15℃；开花后，棚室内昼温保持在25-30℃，夜温12-15℃；若遇连阴天气，应加强保温措施，使昼温不低于18℃，夜间不低于8℃；