[发明专利]一种锗晶体码盘分划工艺

说明书

技术领域

本发明涉及一种锗晶体码盘分划工艺，属于光学加工技术领域。

背景技术

光学码盘是光学轴角编码器的角度基准光学元件，是实现模-数转换（A/D转换）的有效工具之一，是信息场形成的关键零件。激光通过码盘上的光栅通道，形成信息场的调制频率。采用CO2激光器的激光驾束制导仪，工作波长为10.6μm，码盘需用锗晶体基底来制作。锗基底码盘的加工及检测是一项新的工艺课题。锗码盘的制作主要包括：光坯的加工—码盘图案的制作—镀膜等制作过程。锗晶体光坯的加工及红外增透膜的镀制在国内有成熟工艺，但却鲜少有分划图案的制作技术。

采用普通分划制作工艺：光刻胶：正性光刻胶；工艺流程为：镀铬→涂胶→前烘→曝光→中烘→显影→后烘→腐蚀→去胶→检验零件各项技术要求→转下一道工序。按此工艺加工后，锗晶体光坯上直接镀上铬后，铬膜与锗结合非常牢固，码盘图案透光区脱铬非常困难，最终锗晶体光坯表面无任何图案。

发明内容

本发明目的就在于克服上述不足，提供一种锗晶体码盘分划工艺。

为实现上述目的，本发明是通过以下技术方案来实现：一种锗晶体码盘分划工艺，其工艺流程为：涂胶→前烘→曝光→中烘→显影→后烘→清洗→镀铬→去胶→检验。

进一步，作为一种优化方案，所述的前烘、中烘、后烘三道工序均为放入烘箱烘干后取出放入暗室中自然冷却。

进一步，作为一种优化方案，所述的涂胶工序中采用的胶为负性光刻胶。

本发明的有益效果是：解决了锗晶体码盘图案的制作技术难题，在锗晶体光坯上制作出明暗对比度大、图案边缘不均匀性小的码盘图案，激光通过码盘上的光栅通道，形成信息场的调制频率，满足激光驾束制导仪的使用。该方法对晶体分划元件的制作具有很好的推广应用价值。可广泛应用于光学仪器分划元件的加工，可用于航天、航空、激光驾束制导系统、红外产品光学系统等。在锗晶体光坯上制作出明暗对比度大、图案边缘不均匀性小的码盘图案。

附图说明

图1为本发明的工艺流程图。

具体实施方式

下面结合附图对本发明作进一步说明：

实施例1：如图1流程所示，φ58mm×3mm的锗晶体码盘，锗晶体光坯表面涂上负性光刻胶，放入烘箱进行前烘后取出，暗室自然冷却，曝光，放入烘箱进行中烘，暗室自然冷却，再放入显影液显影后，进行后烘，暗室自然冷却，清洗零件，镀制铬膜，去胶，检验图形、指标符合要求，转下一道工序真空镀膜。

本发明采取上述技术方案以后，对零件进行了观察和测量，图案边缘比较整齐，不均匀性最大为0.008mm。透过率测量：在波长10.6μm处，透光区和不透光区的透过率测量结果如下：不透光区透过率是6.633%，透光区透过率是48.806%。结果表明，在锗晶体表面形成明暗对比度大、图案边缘不均匀性小于0.008mm的码盘图形。

需要注意的是，上述具体实施例仅仅是示例性的，在本发明的上述教导下，本领域技术人员可以在上述实施例的基础上进行各种改进和变形，而这些改进或者变形落在本发明的保护范围内。

本领域技术人员应该明白，上面的具体描述只是为了解释本发明的目的，并非用于限制本发明。本发明的保护范围由权利要求及其等同物限定。