[发明专利]带台阶的平面上制备透明导电薄膜的方法

权利要求书

1.带台阶的平面上制备透明导电薄膜的方法，其特征在于包括以下步骤：

（1）表面亲水处理：将带有台阶的衬底薄膜带有台阶一面向上放入臭氧等离子刻蚀机中，在20-25℃的条件下表面处理3-6分钟；

（2）刮涂制备透明导电薄膜：使用3M胶带沿着薄膜将其固定在钢化薄膜板上，利用刮涂方法将配置好的10-15mg/ml的银纳米线胶体滴在薄膜上，然后用玻璃棒在薄膜表面来回刮涂几次后，将薄膜干燥；

（3）重复步骤（2）两次，总共刮涂3层银纳米线薄膜；

（4）压力处理提高薄膜导电性：取一片未用臭氧等离子刻蚀机处理过的衬底薄膜覆盖在刮涂好的银纳米线薄膜表面，放入压片机，加压至5-30MPa后立即泄压；

（5）在薄膜表面旋涂一层旋涂物质，提高薄膜稳定性：将步骤（4）所得的薄膜放入旋涂仪，在薄膜表面旋涂一层旋涂物质，转速为4000-5000rpm，旋涂时间为40-60秒，最后将旋涂好的薄膜放在加热板上，在95-105℃温度下干燥2-3min即可。

2.根据权利要求1所述的带台阶的平面上制备透明导电薄膜的方法，其特征在于，所述的衬底包括聚甲基丙烯酸甲酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚乙烯、各种型号的硅胶、各种玻璃、各种纸或各种布。

3.根据权利要求1所述的带台阶的平面上制备透明导电薄膜的方法，其特征在于，所述的刮涂方法包括手工刮涂或用仪器进行刮涂。

4.根据权利要求1所述的带台阶的平面上制备透明导电薄膜的方法，其特征在于，刮涂完成后薄膜干燥包括自然晾干，吹风机吹干或加热板蒸干。

5.根据权利要求1所述的带台阶的平面上制备透明导电薄膜的方法，其特征在于，压力处理包括冷压力处理和热压力处理。

6.根据权利要求1所述的带台阶的平面上制备透明导电薄膜的方法，其特征在于，所述的旋涂物质包括聚乙烯醇、石墨烯、硅胶或氧化物纳米材料。