[发明专利]进阶修正方法无效

专利信息
申请号: 201410206606.0 申请日: 2014-05-16
公开(公告)号: CN104423178A 公开(公告)日: 2015-03-18
发明(设计)人: 宣崇德;胡哲明;罗招龙 申请(专利权)人: 旺宏电子股份有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 任岩
地址: 中国台湾新竹*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 进阶 修正 方法
【权利要求书】:

1.一种进阶修正方法,包括:

提供一目标布局图形(Target layout pattern);

对该目标布局图形施以分段及建立多个评估点;

以一修正模型修正该目标布局图形以取得一修正图形;

对该修正图形进行一仿真模拟,以取得一模拟轮廓(simulation contour);

在该目标布局图形上的每一评估点计算该仿真轮廓与该目标布局图形的一差异,当该差异值大于所设定的一标准值时,所对应的该评估点即被归类成一离标评估点(off-target evaluation point);

依据影响该仿真轮廓偏离该目标布局图形的多个影响因子以及多个预设条件范围,以取得各个离标评估点的多个风险加权值;

将各个离标评估点的这些风险加权值加总,以得到各个离标评估点的一风险加总值;

将这些离标评估点的这些风险加总值由高至低排序成一处理顺序;

将该目标布局图形加以辨认及分类归纳成多个图形区块;以及

依据该处理顺序,调整该修正图形,使调整后的该修正图形的该仿真轮廓收敛且接近该目标布局图形。

2.根据权利要求1所述的进阶修正方法,其中取得各个离标评估点的这些风险加权值的方法更包括建立一查询表以及查询该查询表来取得,该查询表具有这些影响因子以及对应的这些预设条件范围的这些风险加权值的信息。

3.根据权利要求2所述的进阶修正方法,其中这些影响因子包括:

一离标程度(off-target level),其中该离标程度为这些离标评估点与该目标布局图形的偏差值;

一目标关键尺寸(target CD size);

一片段类型(dissection type);以及

一直线长度(run length)。

4.根据权利要求3所述的进阶修正方法,其中该离标程度愈大、该目标关键尺寸愈小或该直线长度愈长,则该风险加权值愈大。

5.根据权利要求3所述的进阶修正方法,其中该片段类型包括转角(Vert)、直线(Run)、线末(Line end)或其组合,且该直线的该风险加权值大于该转角的该风险加权值,且该转角的该风险加权值大于该线末的该风险加权值。

6.根据权利要求1所述的进阶修正方法,更包括建立多个特定图层,其中各该特定图层分别储存该目标布局图形、该修正图形、该仿真轮廓以及这些离标评估点的信息。

7.根据权利要求1所述的进阶修正方法,其中该修正模型包括光学邻近效应修正模型。

8.根据权利要求1所述的进阶修正方法,其中该调整该修正图形的步骤是进行至这些离标评估点的数目减少至一定值以下或为零。

9.根据权利要求1所述的进阶修正方法,其中该调整该修正图形的步骤是进行至这些离标评估点的这些风险加总值下降至一定值以下或为零。

10.一种进阶修正方法,包括:

提供一目标布局图形;

对该目标布局图形施以分段及建立多个评估点;

以一修正模型修正该目标布局图形以取得一修正图形;

对该修正图形进行一仿真模拟,以取得一模拟轮廓;

在该目标布局图形上的每一评估点计算该仿真轮廓与该目标布局图形的差异,当该差异值大于所设定的一标准值时,所对应的该评估点被归类成一离标评估点(off-target evaluation point);

依据影响该仿真轮廓偏离该目标布局图形的多个影响因子以及多个预设条件范围,以取得各个离标评估点的多个风险加权值;

将各个离标评估点的这些风险加权值加总,以得到各个离标评估点的一风险加总值;

将该目标布局图形加以辨认分类与归纳成多个图形区块;

依据一规则,取得各个图形区块的一区块风险加总值,该其中该规则与各个图形区块中的这些离标评估点的这些风险加总值有关;

将这些区块风险加总值由高至低排序成一处理顺序;以及

依据该处理顺序,调整该修正图形,使调整后的该修正图形的该仿真轮廓收敛且接近该目标布局图形。

11.根据权利要求10所述的进阶修正方法,其中该规则包括以各个图形区块中的这些离标评估点中的一最高风险加总值来决定该区块风险加总值。

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