[发明专利]用于深沟球轴承的非接触式密封装置无效
申请号: | 201410200648.3 | 申请日: | 2014-05-14 |
公开(公告)号: | CN103953651A | 公开(公告)日: | 2014-07-30 |
发明(设计)人: | 华震霆 | 申请(专利权)人: | 镇江华天轴承有限公司 |
主分类号: | F16C33/78 | 分类号: | F16C33/78 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 212141 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 深沟 球轴承 接触 密封 装置 | ||
技术领域
本发明涉及一种密封圈,特别是涉及一种用于深沟球轴承的非接触式密封装置。
背景技术
滚动轴承它是依靠主要元件之间的滚动接触支撑转动零件,滚动轴承具有摩擦阻力小,功率消耗少,起动容易等优点。轴承的早期损坏,往往不是由轴承材质问题引起的,而是由于污物等浸入轴承内部,引起沟道表面的点型剥落:即杂物浸入→沟道压痕→应力集中→产生片状剥落→轴承失效或水浸入轴承→润滑失效→产生麻点剥落→轴承失效。
单密封结构设计是通过密封圈与外圈密封槽、内圈外径的双过盈配合,实现固定密封圈和防漏脂的功能。由于首先要保证密封圈固定于外圈且随其旋转,因此,密封圈与内圈外径的配合很关键,过盈量不能太大也不能太小。如密封圈与内圈外径配合过盈量超过与外圈密封槽配合过盈量,则可能相对于外圈旋转,即活盖,或不活盖但与轴承内圈摩擦生热严重。过盈量太小时又可能漏脂密封效果差。如何满足这两个相互矛盾的要求,是密封圈设计的一个难题。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是提供一种用于深沟球轴承的非接触式密封装置,可大幅改善防止水分、异物微粒及其混合物等浸入轴承内部的功能,从而改善轴承的耐久性。
本发明是通过下述技术方案来解决上述技术问题的:一种用于深沟球轴承的非接触式密封装置,其特征在于,其包括外圈、第一密封圈、第一密封圈骨架、第二密封圈、第二密封圈骨架、内圈,第一密封圈与第二密封圈并列且不接触,第一密封圈与外圈过盈配合而与内圈过渡配合,第二密封圈与外圈过渡配合而与内圈过盈配合,第一密封圈骨架位于第一密封圈内,第二密封圈骨架位于第二密封圈内。
优选地,所述第一密封圈与第二密封圈都包括主唇、钢骨架、辅助密封直唇、辅助密封斜唇,辅助密封直唇与辅助密封斜唇位于主唇两侧,钢骨架与主唇连接。
优选地,所述主唇与内圈两挡边上的梯形密封槽底相对且不接触。
优选地,所述辅助密封直唇与内圈梯形密封槽外侧的牙口相对且不接触。
优选地,所述辅助密封斜唇与内圈梯形密封槽内侧的挡边相对且不接触。
本发明的积极进步效果在于:本发明可大幅改善防止水分、异物微粒及其混合物等浸入轴承内部的功能,从而改善轴承的耐久性。非接触式密封结构几乎没有密封摩擦,运转摩擦小,磨损少,温升小,极限转速高,延长轴承的使用寿命。
附图说明
图1为本发明用于深沟球轴承的非接触式密封装置的结构示意图。
图2为本发明中密封圈的结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图给出本发明较佳实施例,以详细说明本发明的技术方案。
如图1和图2所示,本发明用于深沟球轴承的非接触式密封装置其包括外圈1、第一密封圈2、第一密封圈骨架3、第二密封圈4、第二密封圈骨架5、内圈6,第一密封圈2与第二密封圈4并列且不接触,第一密封圈2与外圈1过盈配合而与内圈6过渡配合,第二密封圈4与外圈1过渡配合而与内圈6过盈配合,第一密封圈骨架3位于第一密封圈2内,第二密封圈骨架5位于第二密封圈4内。
第一密封圈2与第二密封圈4都包括主唇7、钢骨架8、辅助密封直唇9、辅助密封斜唇10,辅助密封直唇9与辅助密封斜唇10位于主唇7两侧,钢骨架8与主唇7连接。主唇7与内圈两挡边上的梯形密封槽底相对且不接触。辅助密封直唇9与内圈梯形密封槽外侧的牙口相对且不接触。辅助密封斜唇10与内圈梯形密封槽内侧的挡边相对且不接触。钢骨架8用于增加密封圈刚性。
第一密封圈在工作状态下随外圈旋转,主要起固定密封圈和防漏脂双重功能;第二密封圈在工作状态下随内圈旋转,主要起二级防漏功能。两个密封圈过渡配合处采用斜面结构,如图1所示。第一密封圈与外圈在B、A处过盈配合,起固定作用,与内圈在B'、A'处过渡配合,摩擦生热少,可降低温升;第二密封圈与外圈在C处过渡配合,与内圈在C'处过盈配合,它不考虑与外圈的固定问题,因而,可与内圈实现大过盈配合,防漏脂效果良好。另外,它与内圈同步运动,不存在摩擦生热问题。总之,本发明的双密封结构较单密封具有摩擦生热少、密封效果好且漏脂量少的优点。
以上所述的具体实施例,对本发明的解决的技术问题、技术方案和有益效果进行了进一步详细说明,所应理解的是,以上所述仅为本发明的具体实施例而已,并不用于限制本发明,凡在本发明的精神和原则之内,所做的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。
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