[发明专利]一种判断体铁测试值可信度的方法有效
申请号: | 201410200552.7 | 申请日: | 2014-05-13 |
公开(公告)号: | CN103983540A | 公开(公告)日: | 2014-08-13 |
发明(设计)人: | 刘耀琴;王艾;周文飞;王建勋 | 申请(专利权)人: | 北京七星华创电子股份有限公司 |
主分类号: | G01N13/00 | 分类号: | G01N13/00;H01L21/66 |
代理公司: | 上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31275 | 代理人: | 吴世华;林彦之 |
地址: | 100016 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 判断 测试 可信度 方法 | ||
1.一种判断体铁测试值可信度的方法,其特征在于,包括以下步骤:
S1、选取一组可信硅片,采用SPV法分别测量该组硅片光照前少子的扩散长度Lbefore1、Lbefore2…Lbeforen、光照后少子的扩散长度Lafter1、Lafter2…Laftern后,计算出可信硅片的体铁值NFe1、NFe2…NFen;
S2、计算S1可信硅片组的体铁值与光照前扩散长度的相关系数Rb及体铁值与光照后扩散长度的相关系数Ra;
S3、提供待测单枚硅片,采用SPV法测量待测硅片光照前少子的扩散长度Lbefore(n+1)和光照后少子的扩散长度Lafter(n+1),如待测硅片光照前少子的扩散长度小于光照后少子的扩散长度,则判断体铁值不可信,如待测硅片光照前少子的扩散长度大于光照后少子的扩散长度,则判断体铁值可信并进一步计算出待测硅片的体铁值NFe(n+1);
S4、将S3中待测单枚硅片放入S1可信硅片组中,计算该组硅片的体铁值与光照前扩散长度的相关系数R′b及该组硅片的体铁值与光照后扩散长度的相关系数R′a;
S5、比对S2中Rb和S4中R′b的数值及比对S2中Ra和S4中R′a的数值,如Rb和R′b之间的数值越接近且Ra和R′a的数值越接近则判断该待测硅片的体铁值可信度越高,反之,则判断该待测硅片的体铁值可信度越低。
2.根据权利要求1所述的判断体铁测试值可信度的方法,其特征在于,所述步骤S2中Rb的计算公式为:
其中,Rb为可信硅片组的体铁值与光照前扩散长度的相关系数,NFei(i=1、2…n)为可信硅片组的体铁值,为可信硅片组的体铁值的均值,Lbeforei(i=1、2…n)为可信硅片组的光照前少子的扩散长度,为可信硅 片组的光照前少子的扩散长度的均值;
所述步骤S2中Ra的计算公式为:
其中,Ra为可信硅片组的体铁值与光照后扩散长度的相关系数,NFei(i=1、2…n)为可信硅片组的体铁值,为可信硅片组的体铁值的均值,Lafteri(i=1、2…n)为可信硅片组的光照后少子的扩散长度,为可信硅片组的光照后少子的扩散长度的均值。
3.根据权利要求2所述的判断体铁测试值可信度的方法,其特征在于,所述可信硅片组的的计算公式为:
所述可信硅片组的的计算公式为:
所述可信硅片组的的计算公式为:
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