[发明专利]一种工艺管排气装置有效
| 申请号: | 201410200372.9 | 申请日: | 2014-05-13 |
| 公开(公告)号: | CN103985632A | 公开(公告)日: | 2014-08-13 |
| 发明(设计)人: | 徐冬;宋新丰 | 申请(专利权)人: | 北京七星华创电子股份有限公司 |
| 主分类号: | H01L21/324 | 分类号: | H01L21/324 |
| 代理公司: | 上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31275 | 代理人: | 吴世华;林彦之 |
| 地址: | 100016 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 工艺 排气装置 | ||
1.一种工艺管排气装置,包括半导体立式热处理设备工艺管的排气口,连接排气口的排气管,所述排气管通过排气管路连接至尾气冷却装置,所述排气口与所述排气管的连接处设有密封圈,其特征在于,所述排气口与所述排气管采用法兰相对接,排气口侧法兰与排气管侧法兰的法兰连接面之间具有一定间隙,所述法兰连接面之间通过环绕法兰圆周设置的密封圈相密封;二侧法兰中的其中一侧法兰的连接面位于所述密封圈与法兰内壁之间处设有吹气口,所述吹气口连通该侧法兰本体内的吹气腔道,所述吹气腔道设有通向该侧法兰本体外的吹气进气口;所述二侧法兰通过夹紧调节机构相固连;其中,可由所述吹气进气口吹入不同的冷却吹扫气体,经由所述吹气腔道、所述吹气口进入所述二侧法兰连接面之间的所述间隙,并由所述间隙进入所述法兰内壁,沿所述排气管通过所述排气管路排向所述尾气冷却装置。
2.如权利要求1所述的工艺管排气装置,其特征在于,所述二侧法兰位于所述密封圈与所述法兰内壁之间靠近所述法兰内壁的连接面处具有环绕法兰圆周设置的相配合的凹凸转折面结构,所形成的所述凹凸转折面之间具有一定间隙。
3.如权利要求1所述的工艺管排气装置,其特征在于,所述二侧法兰中的其中一侧法兰的连接面位于所述密封圈与所述吹气口之间处环绕法兰圆周设有一圈凸起的隔档。
4.如权利要求3所述的工艺管排气装置,其特征在于,所述隔档的顶端与其相对侧法兰的连接面之间具有一定间隙。
5.如权利要求1所述的工艺管排气装置,其特征在于,所述吹气口在所述二侧法兰中的其中一侧法兰的连接面环绕法兰圆周均匀设置多个,所述吹气口连通该侧法兰本体内环绕法兰圆周设置的吹气腔道。
6.如权利要求3所述的工艺管排气装置,其特征在于,所述隔档与所述吹气口设于同一侧所述法兰的连接面处。
7.如权利要求3所述的工艺管排气装置,其特征在于,所述隔档与所述吹气口分别设于二侧所述法兰的连接面处。
8.如权利要求1所述的工艺管排气装置,其特征在于,所述夹紧调节机构包括二个相对设置的夹板,所述二个夹板通过相配合的调节螺钉和螺母相固连,所述二个夹板将所述排气口侧法兰与所述排气管侧法兰夹持在其间,并通过所述二个夹板上设置的相配合的所述调节螺钉和螺母进行固定;所述二个夹板具有通过所述排气口与所述排气管的开口结构。
9.如权利要求8所述的工艺管排气装置,其特征在于,相配合的所述调节螺钉和螺母的数量为4个,分设于所述二个夹板的四个角部,所述调节螺钉上套有压缩弹簧;其中,通过所述螺母的旋转,使所述压缩弹簧具有不同的压紧力,来调整所述二个夹板所夹持的所述排气口侧法兰与所述排气管侧法兰连接面之间的间隙量。
10.如权利要求8或9所述的工艺管排气装置,其特征在于,所述二个夹板将所述排气口侧法兰与所述排气管侧法兰夹持在其间,二个所述夹板与其所夹持的相应侧法兰之间设有柔性垫片。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造





