[发明专利]一种抛釉砖的制造方法及其产品有效
| 申请号： | 201410196893.1 | 申请日： | 2014-05-09 |
| 公开（公告）号： | CN103992141A | 公开（公告）日： | 2014-08-20 |
| 发明（设计）人： | 丘云灵;熊玉 | 申请（专利权）人： | 佛山市东鹏陶瓷有限公司;广东东鹏控股股份有限公司;丰城市东鹏陶瓷有限公司;广东东鹏陶瓷股份有限公司 |
| 主分类号： | C04B41/89 | 分类号： | C04B41/89 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 胡彬;韩国胜 |
| 地址： | 528031 广东省佛山市禅*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 抛釉砖 制造 方法 及其 产品 | ||
1.一种抛釉砖的制造方法，其特征在于，步骤依次包括：
A、将原料配料球磨进行喷雾造粒后压制成形，干燥后再淋底釉形成砖坯；
B、在所述砖坯上印花并干燥后，淋透明釉；
C、再印花并干燥后，再淋一层透明釉，然后干燥；
D、再淋上一层透明釉，然后干燥；
E、入窑烧制后使用非弹性模块进行抛磨后，包装入库。
2.根据权利要求1所述的一种抛釉砖的制造方法，其特征在于：所述步骤A中的所述淋底釉的淋釉量为300-480g/m2。
3.根据权利要求1所述的一种抛釉砖的制造方法，其特征在于：所述步骤B或C中的所述印花包括丝网印花、辊筒印花或喷墨打印印花中的一种或多种组合。
4.根据权利要求1所述的一种抛釉砖的制造方法，其特征在于：所述步骤B中的所述淋透明釉的淋釉量为750-950g/m2。
5.根据权利要求1所述的一种抛釉砖的制造方法，其特征在于：所述步骤C中的所述淋透明釉的淋釉量为600-950g/m2。
6.根据权利要求1所述的一种抛釉砖的制造方法，其特征在于：所述步骤D中的所述淋透明釉的淋釉量为600-950g/m2。
7.根据权利要求1-6任意一项所述的一种抛釉砖的制造方法所制造的产品，其特征在于：由下而上依次包括底坯层、A印花层、A透明釉层、B印花层和B透明釉层。
8.根据权利要求7所述的产品，其特征在于：所述底坯层厚度为6-9mm。
9.根据权利要求7所述的产品，其特征在于：所述A印花层和所述B印花层厚度为小于等于0.1mm。
10.根据权利要求7所述的产品，其特征在于：所述A透明釉层与B透明釉层厚度为0.3-0.7mm。
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