[发明专利]液晶显示器及其制造方法

权利要求书

1.一种液晶显示器，所述液晶显示器包括：

绝缘基底；

像素电极，设置在绝缘基底上；

下取向层，设置在像素电极上，下取向层包括由无机绝缘材料形成的无机取向层；

液晶层，设置在微腔中，微腔设置在下取向层上；

上取向层，沿着微腔的侧面和上表面设置，上取向层包括由无机绝缘材料形成的无机取向层；以及

共电极，设置在上取向层上；

其中，上取向层和下取向层围封液晶层。

2.根据权利要求1所述的液晶显示器，其中，无机绝缘材料由SiOx、氮化硅、碳化硅、非晶硅和氟化类金刚石中的至少一种形成。

3.根据权利要求2所述的液晶显示器，其中，无机取向层由SiOx形成。

4.根据权利要求3所述的液晶显示器，其中，作为SiOx的组成比，x的值在2.3和2.4之间。

5.根据权利要求3所述的液晶显示器，其中，上取向层或下取向层的厚度在和之间。

6.根据权利要求3所述的液晶显示器，其中，上取向层或下取向层的介电常数在5和7之间。

7.根据权利要求1所述的液晶显示器，其中，上取向层和下取向层在相邻的微腔之间叠置。

8.根据权利要求1所述的液晶显示器，其中，上取向层和共电极沿着微腔弯曲。

9.根据权利要求1所述的液晶显示器，所述液晶显示器还包括顶层，所述顶层被形成为覆盖共电极的至少一部分并且包括柱形状。

10.根据权利要求9所述的液晶显示器，所述液晶显示器还包括上绝缘层，所述上绝缘层形成为覆盖顶层的至少一部分。

11.根据权利要求9所述的液晶显示器，所述液晶显示器还包括设置在共电极与顶层之间的下绝缘层。

12.一种制造液晶显示器的方法，所述方法包括：

在绝缘基底上形成像素电极；

用无机绝缘材料形成下取向层，以覆盖像素电极；

在下取向层上形成具有侧面和上表面的牺牲层；

用无机绝缘材料在牺牲层的侧面和上表面上形成上取向层；

形成共电极，以覆盖上取向层；

形成包括柱的顶层，以覆盖共电极；

形成液晶注入孔，以暴露牺牲层；

去除通过液晶注入孔所暴露的牺牲层，以形成微腔；以及

在微腔中注入液晶分子，以形成液晶层。

13.根据权利要求12所述的方法，其中，无机绝缘材料由SiOx、氮化硅、碳化硅、非晶硅和氟化类金刚石中的至少一种形成。

14.根据权利要求13所述的方法，其中，下取向层和上取向层由SiOx形成。

15.根据权利要求14所述的方法，其中，作为SiOx的组成比，x的值在2.3和2.4之间。

16.根据权利要求14所述的方法，其中，上取向层或下取向层的厚度在和之间。

17.根据权利要求14所述的方法，其中，上取向层或下取向层的介电常数在5和7之间。

18.根据权利要求12所述的方法，其中，在以下条件下沉积上取向层或下取向层：沉积温度为大约100℃，沉积压力为大约1.5托，N₂O为大约7000sccm，SiH₄为大约120sccm，沉积时间在27秒与75秒之间。

19.根据权利要求12所述的方法，其中，形成下取向层或形成上取向层的步骤包括：去除沉积在焊盘上的下取向层和上取向层。

20.根据权利要求12所述的方法，其中，形成下取向层或形成上取向层的步骤还包括：在用无机绝缘材料形成下取向层和上取向层之后执行清洗。