[发明专利]磁吸式按键

说明书

技术领域

本发明涉及一种磁吸式按键，特别是关于支撑结构偏置在键帽下方一边的磁吸式按键。

背景技术

运用磁性元件的磁吸式按键已被运用于一些按键产品的制作，相关的前案技术可参考中国台湾专利(公告号为M416801、M432878)以及美国专利(公告号为4453148)。

一般的磁吸式按键，是利用磁铁等磁性元件吸引导磁性元件，以提供键帽向上回复力。当键帽被外力按压克服向上回复力时，键帽被移动至按压位置。当按压键帽的外力消失时，导磁性元件朝向磁性元件移动，最后撞击磁性元件，再次提供键帽向上回复力。藉此，磁吸式按键可以提供操作者按压手感。

然而，传统的磁吸式按键其支撑结构占据键帽下方大部分面积，致使无多余空间安置其他元件(例如，发光元件)于键帽下方。

发明内容

因此，为了解决上述问题，本发明提供一种磁吸式按键，并且特别地，本发明的磁吸式按键其支撑结构偏置在键帽下方一边。

为了达到上述目的，本发明提出一种磁吸式按键，该磁吸式按键包含底板、键帽、第一磁吸构件和第二磁吸构件。键帽位于该底板上方，该键帽具有底表面、第一边缘与第二边缘，该第二边缘与该第一边缘相对，且该键帽通过该第一边缘与该底板枢接，致使该第二边缘可相对于该底板于未按压位置与按压位置之间转动；第一磁吸构件固定于该键帽的该底表面上且该第一磁吸构件位于该第一边缘处；第二磁吸构件固定在该底板上，且该第二磁吸构件贴近该第一磁吸构件，该键帽未被按压时，该第二磁吸构件与该第一磁吸构件磁吸相互贴近，以提供向上回复力至该第二边缘使得该第二边缘保持在该未按压位置；其中当该键帽被外力按压并克服该向上回复力时，该第一磁吸构件远离该第二磁吸构件，该第二边缘转动至该按压位置。

作为可选的技术方案，该磁吸式按键还包含至少一致动构件和电路板，该致动构件从该第一磁吸构件的底部朝向该第二边缘延伸；电路板包含至少一开关，且该电路板安置于该底板上，该开关与该致动机构一一对应，当该键帽被外力按压并克服该向上回复力时，该第一磁吸构件远离该第二磁吸构件并带动该致动构件触发其对应的该开关。

作为可选的技术方案，该第二磁吸构件为磁性构件，该第一磁吸构件为磁感应构件；或者，该第一磁吸构件为磁性构件，该第二磁吸构件为磁感应构件。

作为可选的技术方案，该第一磁吸构件为磁感应构件，该第二磁吸构件包含支撑构件以及磁性构件，该支撑构件固定于该底板上，该磁性构件固定于该支撑构件上且该磁性构件面对该磁感应构件。

作为可选的技术方案，该第一磁吸构件具有至少一第一卡合结构，该键帽的该底表面具有至少一第二卡合结构，该第一卡合结构与该第二卡合结构一一对应卡合，藉此限制该第一磁吸构件相对于该键帽沿着第一方向的相对运动。

作为可选的技术方案，该第一卡合结构包括缺口，该第二卡合结构包括凸柱。

作为可选的技术方案，该缺口具有缺口收纳部与缺口开口部，该缺口收纳部的尺寸比该缺口开口部的尺寸大，该凸柱具有凸柱连接端和凸柱末端，该凸柱末端的尺寸比该凸柱连接端的尺寸大，当该凸柱末端进入该缺口收纳部时，该缺口开口部限制该凸柱末端，使该凸柱末端无法自该缺口收纳部脱出，藉此限制该第一磁吸构件相对于该键帽沿着第二方向的相对运动，该第一方向垂直于该第二方向。

作为可选的技术方案，该键帽的该底表面还具有复数个限制结构，该第一磁吸构件沿着第三方向具有两相对侧表面，该复数个限制结构分别抵接该第一磁吸构件的该两相对侧表面，藉此限制该第一磁吸构件相对于该键帽沿着该第三方向的相对运动，该第一方向及该第二方向均垂直于该第三方向。

作为可选的技术方案，该键帽的该底表面还具有一对上枢接结构，该底板还具有一对第二向上弯折部且该对第二向上弯折部上成型一对下枢接结构，该对上枢接结构与该对下枢接结构枢接构成枢接轴，当该键帽被外力按压时，该键帽围绕该枢接轴旋转。

作为可选的技术方案，该底板具有第一向上弯折部，该第一向上弯折部成型为该第二磁吸构件，该第一向上弯折部位于该对第二向上弯折部之间。

作为可选的技术方案，该电路板具有第一开口以及一对第二开口，该第一开口供该第一向上弯折部穿过，该对第二开口供该对第二向上弯折部穿过。