[发明专利]电化学抛光供液装置有效
| 申请号: | 201410190482.1 | 申请日: | 2014-05-07 |
| 公开(公告)号: | CN105088328B | 公开(公告)日: | 2018-11-06 |
| 发明(设计)人: | 代迎伟;金一诺;王坚;王晖 | 申请(专利权)人: | 盛美半导体设备(上海)有限公司 |
| 主分类号: | C25F7/00 | 分类号: | C25F7/00;C25F7/02;C25F3/22 |
| 代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 陆嘉 |
| 地址: | 201203 上海市浦东新*** | 国省代码: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 电化学 抛光 装置 | ||
1.一种电化学抛光供液装置,其特征在于,包括:
腔室,所述腔室开设有排液口;
第一抛光液槽,所述第一抛光液槽盛有抛光液,第一抛光液槽与所述腔室的排液口连接;
第二抛光液槽,所述第二抛光液槽盛有抛光液;
第一喷头,所述第一喷头的上端口设置在所述腔室内,第一喷头的下端口设置在所述第一抛光液槽内,第一喷头通过其上端口将第一抛光液槽内的抛光液喷射至待抛光晶圆的表面;
第二喷头,所述第二喷头的上端口设置在所述腔室内,第二喷头的下端口设置在所述第二抛光液槽内,第二喷头通过其上端口将第二抛光液槽内的抛光液喷射至待抛光晶圆的外边缘;及
电源,所述电源的阴极与所述第一喷头电连接,电源的阳极与所述第二喷头电连接。
2.根据权利要求1所述的电化学抛光供液装置,其特征在于,还进一步包括铜离子回收装置,所述铜离子回收装置回收抛光液中的铜离子,铜离子回收装置通过管道分别与第一抛光液槽和第二抛光液槽连接,铜离子回收装置与第一抛光液槽相连接的管道上设置有第一电磁阀,铜离子回收装置与第二抛光液槽相连接的管道上设置有第二电磁阀。
3.根据权利要求2所述的电化学抛光供液装置,其特征在于,所述铜离子回收装置内设置有铜离子浓度检测装置。
4.根据权利要求2所述的电化学抛光供液装置,其特征在于,所述第一抛光液槽和第二抛光液槽通过管道连接,第一抛光液槽和第二抛光液槽相连接的管道上设置有第三电磁阀。
5.根据权利要求4所述的电化学抛光供液装置,其特征在于,所述第一电磁阀、第二电磁阀及第三电磁阀均为单向阀。
6.根据权利要求1所述的电化学抛光供液装置,其特征在于,所述第一抛光液槽内设置有铜离子浓度检测装置和液位检测装置。
7.根据权利要求1所述的电化学抛光供液装置,其特征在于,所述第二抛光液槽内设置有液位检测装置。
8.根据权利要求1所述的电化学抛光供液装置,其特征在于,所述第一喷头的上端口和第二喷头的上端口在腔室内的水平高度一致。
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