[发明专利]清洁刮板、清洁刮板的制造方法、处理盒和电子照相设备有效

专利信息
申请号: 201410181122.5 申请日: 2014-04-30
公开(公告)号: CN104133360A 公开(公告)日: 2014-11-05
发明(设计)人: 辛岛贤司;河田将也;田上智博;渡部政弘;伊藤真吾 申请(专利权)人: 佳能株式会社
主分类号: G03G21/00 分类号: G03G21/00;G03G21/18;G03G15/00
代理公司: 北京魏启学律师事务所 11398 代理人: 魏启学
地址: 日本东京都大*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 清洁 制造 方法 处理 电子 照相 设备
【说明书】:

技术领域

本发明涉及清洁刮板、该清洁刮板的制造方法以及各自包括该清洁刮板的处理盒和电子照相设备。

背景技术

通常,即使在电子照相感光构件(下文中也简称为感光构件)表面(外周面)上形成的调色剂图像被转印到转印介质或中间转印构件之后,或即使在调色剂图像被从中间转印构件进一步转印到转印介质之后,部分调色剂也易于残留在感光构件和/或中间转印构件上。因此,在感光构件或中间转印构件上的残留调色剂必须例如用清洁刮板除去。现有的清洁刮板可具有板状形状,且可具有1mm以上且3mm以下的厚度。现有清洁刮板的与被清洁构件(例如感光构件或中间转印构件)相对的表面的纵向长度可以大于厚度。

清洁刮板可以被固定到电子照相设备的金属支架,使得清洁刮板的边缘(前端棱线部)与被清洁构件接触。

通常在清洁刮板中使用聚氨酯橡胶,这是因为其高耐磨耗性和抗永久变形性。

已经被开发以满足目前对高图像质量需求的一种已知调色剂具有小的粒径和高的球形度(接近于球形)。这种具有小粒径和高球形度的调色剂有利地具有相对高的转印效率,并且可以满足对高图像质量的需求。

然而,很难用清洁刮板从被清洁构件表面完全除去具有小粒径和高球形度的调色剂,因此经常导致不良清洁。这是因为:具有小粒径和高球形度的调色剂与其它调色剂相比,更易于在清洁刮板和被清洁构件之间滑动。

提高接触压力并减少在清洁刮板与被清洁构件之间的间隙,对防止调色剂的滑过是有效的。

然而,在清洁刮板和被清洁构件之间更高的接触压力,易于导致在清洁刮板和被清洁构件之间形成更高的摩擦力。在清洁刮板和被清洁构件之间更高的摩擦力,增加了清洁刮板沿被清洁构件表面的移动方向被拉伸(drawn)以及清洁刮板的边缘在被清洁构件表面上挂住(catches)(翘起)的可能性。当清洁刮板对抗拉伸力(drawing force)而回到其原始位置时,清洁刮板可能发出异常噪音。用具有翘起边缘的清洁刮板连续清洁,易于导致在清洁刮板边缘附近(距离边缘几微米至几十微米)局部磨损。进一步的连续清洁增加局部磨损,因此不能完全除去调色剂。

从清洁刮板和被清洁构件的长寿命化和节约能源的观点来看,必须减小被清洁构件在清洁期间的旋转扭矩(扭矩减小)。对于扭矩减小,减少清洁刮板与被清洁构件的接触部的表面上的摩擦是有效的。

关于扭矩减小,日本专利特开2008-268670公开了在与被清洁构件接触的聚氨酯橡胶(聚氨酯弹性体)清洁刮板的表面层中包括具有3μm以下的平均粒径的细颗粒的技术。

日本专利特开2012-150203公开了如下技术:设置具有比清洁刮板的基层更高的硬度的表面层的与被清洁构件接触的清洁刮板的接触部。

日本专利特开2009-025451公开了如下技术:连续增加与被清洁构件接触的清洁刮板的接触部的从接触部的内部到表面的氮浓度。

日本专利特开2001-075451公开了如下技术:与聚氨酯橡胶(聚氨酯弹性体)清洁刮板的边缘的内部的异氰脲酸酯基浓度相比,增加在边缘的表面上的异氰脲酸酯基的浓度。

然而,本发明人的研究表明,现有技术的这些技术具有下列问题。

如在日本专利特开2008-268670和2012-150203中描述的具有表面层和基层的此类双层清洁刮板中,当清洁刮板与被清洁构件接触时,表面层和基层行为不同。因此,由于在被清洁构件表面上的凹凸(一般为1μm以上且2μm以下)或异物导致表面层有时剥离或碎裂。在日本专利特开2008-268670中描述的技术中,很难在表面层中均匀地分散细颗粒。细颗粒的不均匀分散,有时引起在接触部中特性的变化、局部破碎或不良清洁。

在日本专利特开2009-025451中描述的技术,增加与被清洁构件接触的聚氨酯橡胶(聚氨酯弹性体)清洁刮板的接触部的表面上的交联浓度,以形成硬链段。然而,该技术有时不充分地减小扭矩。

在日本专利特开2001-075451中描述的技术,包括向模具的内表面涂布异氰酸酯化合物和异氰脲酸酯化催化剂的液体混合物,以增加在聚氨酯橡胶(聚氨酯弹性体)清洁刮板的表面上的异氰脲酸酯基浓度。为了在清洁刮板的表面附近获得基本稳定的硬度和充分的扭矩减小而增加异氰脲酸酯基浓度,有时导致对被清洁构件的表面上的凹凸或异物的差的追随性。对被清洁构件表面上的凹凸或异物的差的追随性,易于导致调色剂的滑过。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于佳能株式会社,未经佳能株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201410181122.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top