[发明专利]一种锆银合金靶材及其制备方法与应用有效

专利信息
申请号: 201410180389.2 申请日: 2014-04-30
公开(公告)号: CN103924122A 公开(公告)日: 2014-07-16
发明(设计)人: 余水;张先超;张恩瑞;李明仁 申请(专利权)人: 厦门建霖工业有限公司
主分类号: C22C16/00 分类号: C22C16/00;C23C14/30
代理公司: 厦门南强之路专利事务所(普通合伙) 35200 代理人: 马应森
地址: 361021 福*** 国省代码: 福建;35
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 合金 及其 制备 方法 应用
【说明书】:

技术领域

本发明涉及合金靶材,尤其是涉及一种锆银合金靶材及其制备方法与应用。

背景技术

目前,在表面处理装饰行业中,普遍采用多弧锆靶来进行表面装饰镀膜,在镀膜过程中再通过通入反应气体比如氮气、氩气、乙炔等来获得各种具有优异耐蚀性能的装饰性颜色膜层。而抗菌膜层通常是采用溅射一层银膜来达到抗菌抑菌效果,但由于银在大气中的稳定性差,耐蚀性能差,而导致产品的颜色变色和表面发生腐蚀,严重影响产品的外观质量,而不能够在实际中得到应用。

中国发明专利200910060257提供了一种锆钇合金靶件的制备方法,通过真空感应熔炼,在熔炼过程充氩抑制挥发,加热炉保温浇注成型制成锆钇合金锭,再通过包覆热轧、淬火热处理、去应力退火热处理得到锆钇合金靶件。

中国发明专利200910008925公开了一种银-金合金靶材、其制造方法及应用,所述制造方法包括将一靶材原料置入一熔炼炉中加热至熔融;将熔融后的熔汤进行浇铸;将浇铸后所形成的铸锭进行热锻;将热锻后所形成的胚体进行冷轧延;将冷轧延后的胚体进行热处理,以获得晶粒细小的银-金合金靶材。

锆的熔点为1852℃,锆非常容易别氧化,银的熔点为960.8℃,高纯度的锆银合金靶材很难采用常规的真空感应熔炼技术或者粉末冶金的方法来获得。

发明内容

本发明的目的在于克服上述现有技术的不足,针对锆银合金靶材的特征,提供可得到无明显气孔、偏析等缺陷,组织大小均匀的一种锆银合金靶材及其制备方法与应用。

所述锆银合金靶材按质量百分比的组成为:锆97%~99.5%,银0.5%~3%。

所述锆银合金靶材的制备方法,包括以下步骤:

1)将核级海绵态金属锆与银屑混合,得锆与银混合料;

2)将步骤1)得到的锆与银混合料压制成电极后放置在有氮气保护气氛环境中,防止材料受潮、氧化;

3)将步骤2)得到的每2个电极焊接成熔炼电极;

4)将步骤3)得到的熔炼电极进行熔炼,得锆银一次锭;

5)将步骤4)得到的锆银一次锭去头、平尾,每2个锆银一次锭焊接成锆银二次熔炼电极;

6)将步骤5)得到的锆银二次熔炼电极进行熔炼,得锆银二次锭;

7)将步骤6)得到的锆银二次锭热锻处理,消除在熔炼过程中产生的粗晶,使组织均匀化,再进行热处理后降温,按照靶材的尺寸规格,加工出所需的锆银合金靶材。

在步骤1)中,所述银屑的纯度可为99.99%。

在步骤2)中,所述电极的质量可为4.4~8.0kg。

在步骤3)中,所述焊接可采用钨极氩弧焊焊接。

在步骤4)中,所述熔炼可将步骤3)得到的熔炼电极在15kg真空自耗电弧熔炼炉进行熔炼,采用直径为85mm的铜坩埚,熔炼的电流可为2.5~3.0kA,工作真空度可为0.03~0.09Pa;所述锆银一次锭的直径可为85mm。

在步骤5)中,所述去头、平尾可采用车床去头、平尾;所述焊接可采用钨极氩弧焊焊接。

在步骤6)中,所述熔炼可将步骤5)得到的锆银二次熔炼电极在15kg真空自耗电弧熔炼炉进行熔炼,采用直径为130mm的铜坩埚,熔炼的电流可为4.0~4.6kA,工作真空度可为0.03~0.09Pa;所述锆银二次锭的直径可为130mm。

在步骤7)中,所述热锻处理的温度可为1150℃;所述热处理的温度可为600~650℃,热处理的时间可为40~60min;所述降温可采用空冷降温;所述加工可采用油冷方式机械加工。

所述锆银合金靶材可在制备表面要求具有抗菌功能的卫浴、家电、汽车等产品中应用。

如在卫浴产品中应用,将清洗干净并烘干处理后的已电镀好卫浴产品挂到PVD镀膜用的挂具上,并直接挂进PVD炉中进行PVD镀抗菌层,具体步骤、工艺如下:

(A)抽真空,当真空度到达3×10-2Pa时进行等离子辉光处理,其工艺为离子源电流0.3~0.8A,偏压80~200V,占空比20%~50%,氩气流速100~300SCCM,处理时间为5~10min,以达到进一步清洗洁净之目的;

(B)进行抽真空,当真空度到达5×10-3Pa时,进行PVD多弧镀膜,所述多弧镀膜工艺条件可为,电源电流100~120A,沉积时间2~5min,偏压80~150V,占空比20%~50%,氩气流速100~200SCCM,氮气气流速0~200SCCM,所述PVD多弧镀膜的靶材为本发明的锆银合金靶材;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于厦门建霖工业有限公司,未经厦门建霖工业有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201410180389.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top