[发明专利]工艺腔室共享电源方法及设备

说明书

技术领域

本发明涉及半导体制备领域，特别是涉及一种工艺腔室共享电源方法及设备。

背景技术

PVD(Physical vapor Deposition，物理气相沉积)是指在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发，并使蒸发物质与气体均发生电离，利用电场的加速作用，使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上。在PVD设备中，镀膜工艺是在工艺腔室中完成，且只有工艺腔室需要配备source-DC(直流电源)，通常每一个工艺腔室配备一个单独的source-DC，在工艺需要加电的时候，直接开启工艺腔室自身的直流电源即可，不涉及到与其他工艺腔室的任何交互，但是同时也带来了工艺成本增加的问题。

发明内容

基于此，有必要针对传统PVD设备导致工艺成本增加的问题，提供一种工艺腔室共享电源方法及设备。

为实现本发明目的提供的一种工艺腔室共享电源方法，包括如下步骤：

步骤S100，接收工艺腔室发出的申请使用电源命令；

步骤S200，检测电源的工作状态；

步骤S300，当所述电源的工作状态为空闲状态时，所述工艺腔室获取所述电源使用权，控制所述工艺腔室与所述电源的连接电路导通；

步骤S400，所述工艺腔室使用所述电源进行工艺任务；

步骤S500，当所述工艺腔室使用所述电源进行所述工艺任务完毕后，控制所述工艺腔室与所述电源的连接电路断开，释放所述电源。

其中，还包括如下步骤：

步骤S310，当所述电源的工作状态为占用状态时，控制所述工艺腔室等待第一预设时间；

步骤S320，当所述工艺腔室在所述第一预设时间内获取所述电源使用权时，控制所述工艺腔室与所述电源的连接电路导通，并执行所述步骤S400；

步骤S330，当所述工艺腔室在所述第一预设时间内未获取所述电源使用权时，控制所述工艺腔室终止申请使用所述电源，并发出报警。

其中，还包括如下步骤：

步骤S310’，当所述电源的工作状态为占用状态时，检测当前等待队列；

步骤S320’，判断所述工艺腔室是否在所述当前等待队列中；

步骤S330’，当所述工艺腔室不在所述当前等待队列中时，控制所述工艺腔室按照优先级的高低排队到所述当前等待队列中；

步骤S340’，当所述工艺腔室在所述当前等待队列中时，终止申请使用所述电源。

其中，所述步骤S330’包括如下步骤：

步骤S331’，检测所述工艺腔室优先级是否高于所述当前等待队列中其他任一工艺腔室；

步骤S332’，当所述工艺腔室优先级高于所述当前等待队列中其他任一工艺腔室时，所述工艺腔室排到所述当前等待队列中优先级低于所述工艺腔室优先级的其他工艺腔室前面。

其中，所述步骤S500还包括如下步骤：

步骤S510，查询所述当前等待队列；

步骤S520，当所述当前等待队列不为空时，控制所述当前等待队列中排在最前面的工艺腔室与所述电源的连接电路导通，并返回执行所述步骤S400；

步骤S530，当所述当前等待队列为空时，释放所述电源。

相应的，为实现上述任一种工艺腔室共享电源方法，本发明还提供了一种工艺腔室共享电源设备，包括工艺腔室和电源，还包括电源接触器和控制器，所述电源接触器个数与所述工艺腔室个数相等；

所述控制器分别与所述电源、所述电源接触器和所述工艺腔室通讯连接，用于接收所述工艺腔室发出的申请使用所述电源命令，并根据所述电源的工作状态，控制所述电源接触器闭合或断开；

所述电源接触器串联在所述工艺腔室与所述电源的连接电路上，用于根据所述控制器的命令导通或断开所述连接电路。

其中，所述控制器包括命令接收模块、第一检测模块、第一控制模块和第二控制模块，其中：

所述命令接收模块，用于接收所述申请使用所述电源命令；

所述第一检测模块，用于检测所述电源的工作状态；

所述第一控制模块，用于当所述第一检测模块检测所述电源的工作状态为空闲状态时，向与所述工艺腔室相应的电源接触器发出命令，导通所述工艺腔室与所述电源的连接电路，并向所述工艺腔室发出电源回馈命令；

所述第二控制模块，用于当所述工艺腔室使用所述电源完成工艺任务后，向与所述工艺腔室相应的电源接触器发出命令，断开所述工艺腔室与所述电源的连接电路，释放所述电源。