[发明专利]一种柔性基板、柔性显示器及其制备方法

说明书

本发明公开一种柔性基板、柔性显示器及其制备方法，其中，柔性基板制备方法，包括步骤：A、在聚合物溶液中添加无机纳米材料，制备出包含无机纳米材料的聚合物溶液；B、将添加无机纳米材料的聚合物溶液涂覆到玻璃基板上；C、通过加热或光照射处理将聚合物溶液形成聚合物薄膜，从而制成柔性基板。本发明通过在聚合物溶液中添加无机纳米材料，然后在玻璃基板上通过加热或光照射的方式直接成膜，使得制得的聚合物薄膜本身就具有了水氧阻隔特性，而无需再在聚合物薄膜上制作无机膜和有机膜，简化了柔性基板与柔性显示器的制作工艺，提高了生产效率，且同样能达到水氧阻隔性能。

技术领域

本发明涉及柔性显示设备领域，尤其涉及一种柔性基板、柔性显示器及其制备方法。

背景技术

不同于传统的平板显示器，柔性AMOLED（有源矩阵式有机发光二级管）所用的衬底材料主要有超薄玻璃、金属薄膜和聚合物塑胶三类，其中，超薄玻璃与金属薄膜的水氧阻隔特性良好，但是也存在缺陷：超薄玻璃的柔韧性差、脆，对裂纹缺陷非常敏感；金属薄膜则透明度差，且表面粗糙度较高，需要额外的平坦化工艺，这些都限制了超薄玻璃与金属薄膜在柔性OLED领域的应用。

聚合物材料(如：PET、PEN、PC、PI等)与玻璃、金属相比具有柔韧性更好、质量更轻、更耐冲击等优点，非常适合作为柔性AMOLED的衬底材料，但是聚合物材料也存在缺陷：其对空气中的水与氧的阻隔特性较差，水与氧容易渗透到显示器件中分解OLED材料，降低显示器的寿命。现有技术中，改善聚合物材料缺陷的方法是在聚合物材料表面上制作水氧阻隔层，如图1所示。首先在玻璃基板上涂敷PI材料，形成PI薄膜后，在PI薄膜上连续形成水氧阻隔层、TFT-Array层、OLED层、封装层，最后通过机械切割方法，将PI薄膜为衬底的显示器件从玻璃基板剥离。

其中，水氧阻隔层结构一般有两种：第一种是选用Al₂O₃、SiO₂、Si₃N₄等无机材料或者两种以上无机物的复合材料制成无机层，如图2所示，通过这种阻隔层阻隔空气中的水与氧通过聚合物材料渗透到器件内部，但上述无机材料需要在较高的温度下淀积，而且弯曲显示器件时，阻隔层会发生断裂，水与氧易从断裂处透过阻隔层；第二种方法是无机材料与有机材料交叠成膜形成的有机层与无机层交替结构，如图3所示，这种结构可以解决阻隔层断裂的问题，其中无机层起水氧阻隔的作用，有机层填充由于弯曲引起的无机层的断裂处，但这种方法的缺点是要反复进行有机层与无机层的成膜，制造工艺繁杂，生产效率低。

因此，现有技术还有待于改进和发展。

发明内容

鉴于上述现有技术的不足，本发明的目的在于提供一种柔性基板、柔性显示器及其制备方法，旨在解决现有的柔性基板及柔性显示器制作工艺复杂、生产效率低的问题。

本发明的技术方案如下：

一种柔性基板制备方法，其中，包括步骤：

A、在聚合物溶液中添加无机纳米材料，制备出包含无机纳米材料的聚合物溶液；

B、将添加无机纳米材料的聚合物溶液涂覆到玻璃基板上；

C、通过加热或光照射处理将聚合物溶液形成聚合物薄膜，从而制成柔性基板。

所述的柔性基板制备方法，其中，所述步骤A中，所述无机纳米材料为Al₂O₃、SiO₂或Si₃N₄中的一种或几种混合物。

所述的柔性基板制备方法，其中，所述步骤A中，按质量百分比计，所制备的聚合物溶液中，无机纳米材料的含量为10%~20%。