[发明专利]用于检测对象的3D结构的设备

权利要求书

1.一种用于检测对象（15）的3D结构的设备，包括：

-第一激光发射器（2a），其产生具有第一波长的激光辐射，

-第二激光发射器（2b），其产生具有第二波长的激光辐射，

其中，第一波长不同于第二波长，

-光学器件（4、9、10、13、14、38、50、53、56），其中的至少一个是分束器（4、48、50、54），所述分束器在每种情况下将激光发射器（2、2a、2b）的激光辐射分裂成参考辐射（5）和照明辐射（6），其中，照明辐射（6）撞击在要测量的对象（15）上，被对象（15）作为对象辐射（21）反射并与参考辐射（5）相干涉，以及

-检测器（12），其记录从其那里形成的干涉图，

其特征在于，

激光发射器（2、2a、2b）被定位为使得第一激光发射器（2a）的照明辐射（6）和第二激光发射器（2b）的照明辐射（6）以不同的入射角（β）撞击在对象（15）上，以及

所述设备（1）包括测量装置（27），该测量装置测量激光发射器（2、2a、2b）的激光辐射的两个波长，并影响对干涉图的记录。

2.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述测量装置（27）测量激光发射器（2、2a、2b）的激光辐射的波长的时间特性，其中，控制装置（28）在基本上恒定的波长的情况下对检测器（12）进行致动，并触发对干涉图的记录。

3.根据权利要求2所述的设备，其特征在于，所述设备（1）包括调节装置（29），所述调节装置根据所述测量装置（27）的测量结果以使得发射的激光辐射的波长基本上恒定的方式来调节所述激光发射器（2、2a、2b）。

4.根据权利要求2或3所述的设备，其特征在于，所述测量装置被配置为法布里珀罗干涉仪（27）。

5.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，第一激光发射器（2a）和第二激光发射器（2b）相互间隔开地位于公共发射器芯片（3）上。

6.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述光学器件（4、9、10、13、54）中的至少一个被配置成以如下这样的方式反射参考辐射（5），即使得各激光发射器（2）的参考辐射（5）以不同的参考入射角（α）入射在检测器（12）上。

7.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述光学器件中的至少一个是全息图（50），所述全息图将照明辐射（5）偏转，所述偏转所采用的方式使得所述照明辐射作为一个或多个照明条（19）撞击在对象（15）上。

8.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，微光学阵列（38）构成所述分束器（48、50），所述分束器将所述激光发射器（2、2a、2b）的激光辐射分裂成参考辐射（5）和照明辐射（6），并为这两组辐射（5、6）供应不同的辐射剖面。

9.根据权利要求8所述的设备，其特征在于，所述微光学阵列（38）包括至少一个偏振器（47、51）以便使照明辐射（6）偏振。

10.根据权利要求8所述的设备，其特征在于，所述微光学阵列（38）包括至少一个偏振器（47、51），以便使所述激光发射器（2、2a、2b）的参考辐射（5）偏振。

11.根据权利要求8所述的设备，其特征在于，所述微光学阵列（38）包括至少一个全息图（50）。

12.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述光学器件中的至少一个被配置为色散透镜（14、53、56）或被配置为色散反射镜（10）。

13.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述设备（1）包括两个发射器芯片（3）和两个检测器（12、58），其中，位于一个发射器芯片（3）上的所述激光发射器（2、2a、2b）的激光辐射撞击在一个检测器（12）上且位于另一发射器芯片（3）上的所述激光发射器（2、2a、2b）的激光辐射撞击在另一检测器（58）上。

14.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述设备（1）包括用于测量位于所述对象（15）上的层（75）的厚度的测量单元（31）。

15.根据权利要求14所述的设备，其特征在于，所述测量单元（31）包括白光点传感器（66），所述白光点传感器根据频率扫描干涉测量法的原理进行工作。