[发明专利]描绘装置和物品的制造方法在审
| 申请号: | 201410169271.X | 申请日: | 2014-04-25 |
| 公开(公告)号: | CN104134603A | 公开(公告)日: | 2014-11-05 |
| 发明(设计)人: | 村木真人;平田吉洋 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
| 主分类号: | H01J37/04 | 分类号: | H01J37/04;H01J37/305;G03F7/20 |
| 代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 曾琳 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 描绘 装置 物品 制造 方法 | ||
1.一种用于用带电粒子束在基板上执行描绘的描绘装置,所述描绘装置包括:
多个带电粒子光学系统,每个带电粒子光学系统具有单个地消隐在第一方向上排列的多个带电粒子束的消隐功能,所述多个带电粒子光学系统以一间隔在第一方向上被布置;
台架,被配置为保持基板并且能够移动;以及
控制器,被配置为执行对通过台架的移动和所述多个带电粒子光学系统中的每一个的消隐功能而执行的描绘的控制,
其中,控制器被配置为关于所述多个带电粒子光学系统中的、来自其的多个带电粒子束到达在基板上形成并且在第一方向上彼此相邻的第一区域和第二区域的第一带电粒子光学系统执行控制,以使得在台架在第二方向上移动的情况下用该多个带电粒子束中的第一部分带电粒子束仅在第一区域和第二区域中的一个中执行描绘。
2.根据权利要求1的描绘装置,其中,控制器被配置为在第一区域和第二区域中的所述一个中的描绘之后,关于第一带电粒子光学系统执行控制,以使得在台架在与第二方向相反的方向上移动的情况下用该多个带电粒子束中的第二部分带电粒子束仅在第一区域和第二区域中的另一个中执行描绘。
3.根据权利要求2的描绘装置,其中,第一部分带电粒子束是除了仅到达第一区域和第二区域中的所述另一个的带电粒子束以外的带电粒子束,并且,第二部分带电粒子束是除了仅到达第一区域和第二区域中的所述一个的带电粒子束以外的带电粒子束。
4.根据权利要求2的描绘装置,其中,控制器被配置为关于所述多个带电粒子光学系统中的、来自其的多个带电粒子束到达在基板上形成的多个区域中的仅一个区域的第二带电粒子光学系统执行控制,以使得在第一区域和第二区域中的所述一个或所述另一个中的描绘期间用该多个带电粒子束在所述多个区域中的所述一个区域中执行描绘。
5.根据权利要求1的描绘装置,其中,控制器被配置为基于与在基板上形成的多个区域的布置和台架的位置有关的信息来指定第一带电粒子光学系统。
6.根据权利要求2的描绘装置,其中,所述多个带电粒子光学系统中的每一个包含被配置为偏转多个带电粒子束以改变其在基板上的位置的偏转器,以及
控制器被配置为执行控制,以使得第一部分带电粒子束在第一区域和第二区域中的所述一个中的描绘期间被偏转器基于与第一区域和第二区域中的所述一个有关的目标描绘位置的信息而偏转,并且,第二部分带电粒子束在第一区域和第二区域中的所述另一个中的描绘期间被偏转器基于与第一区域和第二区域中的所述另一个有关的目标描绘位置的信息而偏转。
7.根据权利要求6的描绘装置,还包括被配置为检测在基板上形成的标记的检测器,
其中,控制器被配置为关于第一区域和第二区域中的所述一个和另一个中的每一个基于检测器的输出来获得目标描绘位置的信息。
8.根据权利要求1的描绘装置,其中,第一方向和第二方向相互正交。
9.根据权利要求1的描绘装置,其中,第一区域和第二区域中的每一个包含曝光区域。
10.一种物品的制造方法,所述方法包括:
使用描绘装置在基板上执行描绘;
对其上执行了描绘的基板进行显影;以及
处理经显影的基板以制造物品,
其中,所述描绘装置用带电粒子束在基板上执行描绘,并包括:
多个带电粒子光学系统,每个带电粒子光学系统具有单个地消隐在第一方向上排列的多个带电粒子束的消隐功能,所述多个带电粒子光学系统以一间隔在第一方向上被布置;
台架,被配置为保持基板并且能够移动;以及
控制器,被配置为执行对通过台架的移动和所述多个带电粒子光学系统中的每一个的消隐功能而执行的描绘的控制,
其中,控制器被配置为关于所述多个带电粒子光学系统中的、来自其的多个带电粒子束到达在基板上形成并且在第一方向上彼此相邻的第一区域和第二区域的第一带电粒子光学系统执行控制,以使得在台架在第二方向上移动的情况下用该多个带电粒子束中的第一部分带电粒子束仅在第一区域和第二区域中的一个中执行描绘。
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