[发明专利]声聚焦传感器的制作方法和声聚焦传感器有效

专利信息
申请号: 201410166541.1 申请日: 2014-04-23
公开(公告)号: CN103968935B 公开(公告)日: 2017-07-07
发明(设计)人: 陆国俊;易满成;舒乃秋;李智宁;杨鹏;方健;顾春晖;苏海博;黄强 申请(专利权)人: 广州供电局有限公司;武汉大学
主分类号: G01H11/06 分类号: G01H11/06;G01R31/12
代理公司: 广州华进联合专利商标代理有限公司44224 代理人: 黄晓庆
地址: 510620 广*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 聚焦 传感器 制作方法 和声
【权利要求书】:

1.一种声聚焦传感器的制作方法,其特征在于,包括如下步骤:

根据预设的聚焦抛物面的开口半径及预设的入射声波的频率,利用下式计算所述聚焦抛物面的中心角:

<mrow><mfrac><mrow><mo>(</mo><mn>3</mn><mo>+</mo><msub><mi>cos&alpha;</mi><mi>m</mi></msub><mo>)</mo><msup><mrow><mo>(</mo><mn>1</mn><mo>-</mo><msub><mi>cos&alpha;</mi><mi>m</mi></msub><mo>)</mo></mrow><mn>2</mn></msup><mo>&lsqb;</mo><mn>3</mn><mo>(</mo><mn>1</mn><mo>-</mo><msup><mi>cos</mi><mn>2</mn></msup><msub><mi>&alpha;</mi><mi>m</mi></msub><mo>)</mo><mo>+</mo><mn>2</mn><mo>(</mo><mn>1</mn><mo>-</mo><msup><mi>cos</mi><mn>3</mn></msup><msub><mi>&alpha;</mi><mi>m</mi></msub><mo>)</mo><mo>&rsqb;</mo></mrow><mrow><mo>(</mo><mn>1</mn><mo>+</mo><msub><mi>cos&alpha;</mi><mi>m</mi></msub><mo>)</mo></mrow></mfrac><mo>=</mo><mfrac><mrow><mn>48</mn><msup><mi>c</mi><mn>2</mn></msup><msub><mi>K</mi><mi>I</mi></msub></mrow><mrow><msup><mi>D</mi><mn>2</mn></msup><msup><mi>&pi;</mi><mn>2</mn></msup><msup><mi>f</mi><mn>2</mn></msup></mrow></mfrac><mo>;</mo></mrow>

其中,αm为所述中心角,D为所述开口半径,f为所述入射声波的频率,K1为预设的聚焦抛物面的放大倍数,0≤K1≤12;

根据所述开口半径及所述中心角,利用下式计算所述聚焦抛物面的焦距:

<mrow><mi>F</mi><mo>=</mo><mfrac><mi>c</mi><mrow><mi>&pi;</mi><mi>f</mi></mrow></mfrac><msqrt><mfrac><msub><mi>K</mi><mi>I</mi></msub><mrow><mo>&lsqb;</mo><mn>4</mn><mo>-</mo><msup><mrow><mo>(</mo><mn>1</mn><mo>+</mo><msub><mi>cos&alpha;</mi><mi>m</mi></msub><mo>)</mo></mrow><mn>2</mn></msup><mo>&rsqb;</mo><mo>*</mo><mo>&lsqb;</mo><mfrac><mn>1</mn><mn>4</mn></mfrac><mrow><mo>(</mo><mn>1</mn><mo>-</mo><msup><mi>cos</mi><mn>2</mn></msup><msub><mi>&alpha;</mi><mi>m</mi></msub><mo>)</mo></mrow><mo>+</mo><mfrac><mn>1</mn><mn>6</mn></mfrac><mrow><mo>(</mo><mn>1</mn><mo>-</mo><msup><mi>cos</mi><mn>3</mn></msup><msub><mi>&alpha;</mi><mi>m</mi></msub><mo>)</mo></mrow><mo>&rsqb;</mo></mrow></mfrac></msqrt><mo>;</mo></mrow>

其中,F为所述焦距,c为声速;

根据所述聚焦抛物面的焦距,制作声聚焦传感器,其中,所述声聚焦传感器包括反射镜和传感器,所述反射镜具有一聚焦抛物面,所述聚焦抛物面的抛物线方程为y2=2px,F=p/2,所述传感器设置在所述聚焦抛物面的焦点上;

所述声聚焦传感器的声压增益值为其中,Kp为所述声压增益值,

所述声聚焦传感器的速度增益值为其中,Kv为所述速度增益值;

所述声聚焦传感器的声强增益值为其中,Ks为所述声强增益值;

所述传感器为驻极体传感器;所述驻极体传感器包括上电极和下电极,上电极为镀有金属层的驻极体振膜,下电极为金属板,上电极和下电极被气隙分开,上下电极之间通过连接线接入电源,上下电极之间的连接线还连接负载电阻,上电极还接地。

2.一种声聚焦传感器,其特征在于,包括反射镜和传感器,所述反射镜具有一聚焦抛物面,所述传感器设置在所述聚焦抛物面的焦点上,所述聚焦抛物面的抛物线方程为y2=2px,F=p/2;

其中,

F为所述聚焦抛物面的焦距,c为声速,αm为所述聚焦抛物面的中心角,K1为预设的聚焦抛物面的放大倍数,0≤K1≤12,f为所述预设的入射声波的频率;

所述中心角通过下式计算得到:

<mrow><mfrac><mrow><mo>(</mo><mn>3</mn><mo>+</mo><msub><mi>cos&alpha;</mi><mi>m</mi></msub><mo>)</mo><msup><mrow><mo>(</mo><mn>1</mn><mo>-</mo><msub><mi>cos&alpha;</mi><mi>m</mi></msub><mo>)</mo></mrow><mn>2</mn></msup><mo>&lsqb;</mo><mn>3</mn><mo>(</mo><mn>1</mn><mo>-</mo><msup><mi>cos</mi><mn>2</mn></msup><msub><mi>&alpha;</mi><mi>m</mi></msub><mo>)</mo><mo>+</mo><mn>2</mn><mo>(</mo><mn>1</mn><mo>-</mo><msup><mi>cos</mi><mn>3</mn></msup><msub><mi>&alpha;</mi><mi>m</mi></msub><mo>)</mo><mo>&rsqb;</mo></mrow><mrow><mo>(</mo><mn>1</mn><mo>+</mo><msub><mi>cos&alpha;</mi><mi>m</mi></msub><mo>)</mo></mrow></mfrac><mo>=</mo><mfrac><mrow><mn>48</mn><msup><mi>c</mi><mn>2</mn></msup><msub><mi>K</mi><mi>I</mi></msub></mrow><mrow><msup><mi>D</mi><mn>2</mn></msup><msup><mi>&pi;</mi><mn>2</mn></msup><msup><mi>f</mi><mn>2</mn></msup></mrow></mfrac><mo>;</mo></mrow>

其中,D为预设的聚焦抛物面的开口半径;

所述声聚焦传感器的声压增益值为其中,Kp为所述声压增益值,

所述声聚焦传感器的速度增益值为其中,Kv为所述速度增益值;

所述声聚焦传感器的声强增益值为其中,Ks为所述声强增益值;

所述传感器为驻极体传感器;所述驻极体传感器包括上电极和下电极,上电极为镀有金属层的驻极体振膜,下电极为金属板,上电极和下电极被气隙分开,上下电极之间通过连接线接入电源,上下电极之间的连接线还连接负载电阻,上电极还接地。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于广州供电局有限公司;武汉大学,未经广州供电局有限公司;武汉大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201410166541.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top