[发明专利]能够增强电荷耦合元件紫外响应能力的光学薄膜及制备

权利要求书

1.一种能够增强电荷耦合元件紫外响应能力的光学薄膜，其特征在于，包括：

镀在所述电荷耦合元件的紫外接收面上的底部反射镜、镀在所述底部反射镜表面的荧光材料层、以及镀在所述荧光材料层表面的顶部反射镜，

其中，所述顶部反射镜从所述荧光材料层向外依次包括厚度为59.0nm±5nm的高折射率材料层、厚度为88.3nm±5nm的低折射率材料层、厚度为62.4nm±5nm的高折射率材料层、厚度为90.9nm±5nm的低折射率材料层、厚度为62.1nm±5nm的高折射率材料层、厚度为91.2nm±5nm的低折射率材料层、厚度为63.3nm±5nm的高折射率材料层、厚度为91.4nm±5nm的低折射率材料层、厚度为63.1nm±5nm的高折射率材料层、厚度为93.3nm±5nm的低折射率材料层、厚度为62.6nm±5nm的高折射率材料层、厚度为92.2nm±5nm的低折射率材料层、厚度为64.4nm±5nm的高折射率材料层、厚度为86.2nm±5nm的低折射率材料层、厚度为38.2nm±5nm的高折射率材料层、厚度为15.0nm±5nm的低折射率材料层、以及厚度为9.3nm±5nm的高折射率材料层，

所述底部反射镜依次由六层高折射率材料层和五层低折射率材料层交替重叠组成，该高折射率材料层的厚度均为61.7nm±5nm，该低折射率材料层的厚度均为88.7nm±5nm，

所述高折射率材料层由高折射率材料制成，所述低折射率材料层由低折射率材料制成，所述荧光材料层由荧光材料制成，厚度为120nm～180nm之间的任意数值。

2.根据权利要求1所述的能够增强电荷耦合元件紫外响应能力的光学薄膜，其特征在于：

其中，所述顶部反射镜从所述荧光材料层向外依次由厚度为59.0nm的高折射率材料层、厚度为88.3nm的低折射率材料层、厚度为62.4nm的高折射率材料层、厚度为90.9nm的低折射率材料层、厚度为62.1nm的高折射率材料层、厚度为91.2nm的低折射率材料层、厚度为63.3nm的高折射率材料层、厚度为91.4nm的低折射率材料层、厚度为63.1nm的高折射率材料层、厚度为93.3nm的低折射率材料层、厚度为62.6nm的高折射率材料层、厚度为92.2nm的低折射率材料层、厚度为64.4nm的高折射率材料层、厚度为86.2nm的低折射率材料层、厚度为38.2nm的高折射率材料层、厚度为15.0nm的低折射率材料层、以及厚度为9.3nm的高折射率材料层构成，

所述底部反射镜从所述电荷耦合元件表面向外依次由高折射率材料层、低折射率材料层、高折射率材料层、低折射率材料层、高折射率材料层、低折射率材料层、高折射率材料层、低折射率材料层、高折射率材料层、低折射率材料层、以及高折射率材料层构成，该高折射率材料层的厚度均为61.7nm，低折射率材料层的厚度均为88.7nm。

3.根据权利要求1所述的能够增强电荷耦合元件紫外响应能力的光学薄膜，其特征在于：

其中，所述荧光材料层的厚度为140nm。

4.根据权利要求1所述的能够增强电荷耦合元件紫外响应能力的光学薄膜，其特征在于：

其中，所述高折射率材料为二氧化铪或二氧化锆，所述低折射率材料为氟化镁或二氧化硅。

5.根据权利要求1所述的能够增强电荷耦合元件紫外响应能力的光学薄膜，其特征在于：

其中，所述荧光材料为路马进或晕苯中的任意一种或二者的混合物。