[发明专利]一种可升降与旋转的海苔晒板有效

专利信息
申请号: 201410162139.6 申请日: 2014-04-22
公开(公告)号: CN103960753A 公开(公告)日: 2014-08-06
发明(设计)人: 李理 申请(专利权)人: 李理
主分类号: A23N12/08 分类号: A23N12/08
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 233000 安徽*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 一种 升降 旋转 海苔
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种海苔晒板,特别涉及一种可升降与旋转的海苔晒板。

背景技术

现有技术中,有一种晒板支架,往往包括立柱、支撑槽等简单结构。但此类晒板支架不能方便地实现晒海苔,也不具有旋转与竖直升降功能。

发明内容

本发明主要是解决现有技术所存在的技术问题,从而提供一种方便水平旋转,方便竖直移动,可以方便地晒海苔,储藏海苔,在旋转滑块上晒海苔更加方便的可升降与旋转的海苔晒板。

本发明的上述技术问题主要是通过下述技术方案得以解决的:

一种可升降与旋转的海苔晒板,包括旋转滑块,旋转滑块设有旋转孔,所述旋转滑块的一侧壁设有滑槽,滑槽为燕尾槽,滑槽呈竖直布置,旋转滑块的另一侧壁设有定位部,旋转滑块连接有晒板,晒板的顶面设有若干等间距布置的凸块与凹槽,凸块与凹槽交错布置,凸块的形状大小与凹槽相同,凸块与旋转滑块在空间上呈垂直布置,凸块与旋转滑块为一体结构。

进一步地 ,所述旋转孔布置在旋转滑块的中间位置。

进一步地 ,所述晒板的横截面为U型形状。

进一步地 ,所述晒板的内部为空腔结构。

进一步地 ,所述定位部呈钝角形状布置。

进一步地 ,所述滑槽的表面涂覆有聚四氟乙烯耐磨层,聚四氟乙烯耐磨层的表面涂覆有陶瓷层。

采用上述技术方案的可升降与旋转的海苔晒板,由于所述旋转滑块的一侧壁设有滑槽,滑槽为燕尾槽,滑槽呈竖直布置,旋转滑块的另一侧壁设有定位部,旋转滑块连接有晒板,晒板的顶面设有若干等间距布置的凸块与凹槽,凸块与凹槽交错布置,凸块的形状大小与凹槽相同,凸块与旋转滑块在空间上呈垂直布置,凸块与旋转滑块为一体结构;所以通过旋转孔安装旋转轴,从而控制该海苔晒板旋转,通过滑槽可以控制该海苔晒板沿竖直导轨上下移动;通过凹槽与凸块可以方便地晒海苔,凹槽用于储藏海苔,在旋转滑块上晒海苔更加方便。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明可升降与旋转的海苔晒板的结构示意图;

图2为图1中A区域的细节放大图。

具体实施方式

下面结合附图对本发明的优选实施例进行详细阐述,以使本发明的优点和特征能更易于被本领域技术人员理解,从而对本发明的保护范围做出更为清楚明确的界定。

如图1至图2所示,一种可升降与旋转的海苔晒板,包括旋转滑块1,旋转滑块1设有旋转孔3,旋转滑块1的一侧壁设有滑槽4,滑槽4为燕尾槽,滑槽4呈竖直布置,旋转滑块1的另一侧壁设有定位部7,旋转滑块1连接有晒板2,晒板2的顶面设有若干等间距布置的凸块5与凹槽6,凸块5与凹槽6交错布置,凸块5的形状大小与凹槽6相同,凸块5与旋转滑块1在空间上呈垂直布置,凸块5与旋转滑块1为一体结构,旋转孔3布置在旋转滑块1的中间位置,晒板2的横截面为U型形状,晒板2的内部为空腔结构,定位部7呈钝角形状布置,滑槽4的表面涂覆有聚四氟乙烯耐磨层,聚四氟乙烯耐磨层的表面涂覆有陶瓷层。

本发明可升降与旋转的海苔晒板,由于旋转滑块1设有旋转孔3,旋转滑块1的一侧壁设有滑槽4,滑槽4为燕尾槽,滑槽4呈竖直布置,旋转滑块1的另一侧壁设有定位部7,旋转滑块1连接有晒板2,晒板2的顶面设有若干等间距布置的凸块5与凹槽6,凸块5与凹槽6交错布置,凸块5的形状大小与凹槽6相同,凸块5与旋转滑块1在空间上呈垂直布置,凸块5与旋转滑块1为一体结构;所以通过旋转孔3安装旋转轴,从而控制该海苔晒板旋转,通过滑槽4可以控制该海苔晒板沿竖直导轨上下移动;通过凹槽6与凸块5可以方便地晒海苔,凹槽6用于储藏海苔,在旋转滑块1上晒海苔更加方便。由于旋转孔3布置在旋转滑块1的中间位置,所以旋转时,受力均匀。用于晒板2的横截面为U型形状,晒板2的内部为空腔结构,所以质轻。用于定位部7呈钝角形状布置,所以可以起到定位作用。用于滑槽4的表面涂覆有聚四氟乙烯耐磨层,聚四氟乙烯耐磨层的表面涂覆有陶瓷层,所以耐磨度大大增加,提高了旋转滑块1的使用寿命,且上下移动更加方便。

以上所述,仅为本发明的具体实施方式,但本发明的保护范围并不局限于此,任何不经过创造性劳动想到的变化或替换,都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此,本发明的保护范围应该以权利要求书所限定的保护范围为准。

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