[发明专利]基于斜坡向上方向位移的铜箔清洗机有效

专利信息
申请号: 201410158600.0 申请日: 2014-04-21
公开(公告)号: CN103949415A 公开(公告)日: 2014-07-30
发明(设计)人: 任育文 申请(专利权)人: 昆山达功电子有限公司
主分类号: B08B1/02 分类号: B08B1/02;B08B3/02;C23G3/02
代理公司: 南京纵横知识产权代理有限公司 32224 代理人: 董建林
地址: 215325 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 基于 斜坡 向上 方向 位移 铜箔 清洗
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种铜箔清洗机的技术领域,特别是涉及一种基于斜坡向上方向位移的铜箔清洗机。

背景技术

由于加工过程的影响,铜箔生产出来后表面会残留污垢,这些污垢如果不清洗干净则会影响进一步加工出来的产品(如变压器)的质量,但是目前还没有一种结构简单、使用方便且对铜箔进行持续清洗的设备。

发明内容

本发明的主要目的在于,克服现有技术中的不足,提供一种基于斜坡向上方向位移的铜箔清洗机,特别适用于持续清洗、长时间不间断的操作。

本发明所要解决的技术问题是提供结构简单、使用方便的基于斜坡向上方向位移的铜箔清洗机,不仅持续清洗效率高,而且清洗干净度也很高,更重要的是节约清洗的用水量,且具有产业上的利用价值。

为了达到上述目的,本发明所采用的技术方案是:

一种基于斜坡向上方向位移的铜箔清洗机,包括长度相等且相互叠合的上毛毡件和下毛毡件,两者相互叠合处供铜箔穿行其中,上毛毡件由上支架悬挂固定,下毛毡件由下支架地面支撑,所述上毛毡件和下毛毡件的所在平面为一斜坡,其与水平平面存在倾斜角;在上毛毡件上连接有上注水管,在下毛毡件上连接有下注水管;还包括用于拉动铜箔向斜坡方向位移的拉动机构。

采用上述技术方案,待清洗的铜箔穿行在上毛毡件和下毛毡件之间,通过上注水管和下注水管的冲水作用,以及毛毡的擦拭作用,实现对铜箔的持续清洗;由于存在坡度,所以清洗的水有一部分会顺着斜坡往下流,从而将移动中的铜箔后部分也进行了冲洗,增加了清洗的用水效率,达到节约清洗用水总量。

本发明进一步设置为:还包括设置在下毛毡件下方的污水收集槽。

待清洗的铜箔通过相叠合的上毛毡件和下毛毡件,经冲水清洗而产生污水,受重力作用,污水顺着斜坡往下流,所以在下毛毡件下方设置污水收集槽,保证排污工作。

本发明更进一步设置为:所述的拉动机构由依次连接的夹紧件、拉线、收线组件构成。待清洗的铜箔由夹紧件夹紧而拉动,穿行过上毛毡件和下毛毡件的叠合处,从而达到动作并发生位移,最后完成清洗操作。

本发明更进一步设置为:所述的倾斜角为0度<倾斜角<90度。

本发明更进一步设置为:所述的倾斜角为90度。

不同的倾斜角度所实现的效果有所区别,但是相差不大,倾斜角为90度时所达到的效果最好,所节约的用水总量最多。 

本发明更进一步设置为:所述的夹紧件为“E”字形状。夹紧件设置成“E”字形状是为了增大夹紧件与铜箔的接触,分散作用力点,使铜箔可以平稳有利的通过上毛毡件和下毛毡件的叠合处,完成清洗过程。

综上所述,本发明一种基于斜坡向上方向位移的铜箔清洗机的技术方案,具有结构简单,使用方便,而且清洗效率高、干净度高、节约水资源的优点。

上述内容仅是本发明技术方案的概述,为了更清楚的了解本发明的技术手段,下面结合附图对本发明作进一步的描述。

附图说明

图1为本发明基于斜坡向上方向位移的铜箔清洗机的结构示意图;

图2为本发明基于斜坡向上方向位移的铜箔清洗机的拉动机构的结构示意图。

具体实施方式

下面结合说明书附图,对本发明作进一步的说明。

如图1及图2所示,一种基于斜坡向上方向位移的铜箔清洗机,包括长度相等且相互叠合的上毛毡件1和下毛毡件2,两者相互叠合处供铜箔3穿行其中,上毛毡件1由上支架11悬挂固定,下毛毡件2由下支架21地面支撑,所述上毛毡件1和下毛毡件2的所在平面为一斜坡,其与水平平面存在倾斜角;在上毛毡件1上连接有上注水管12,在下毛毡件2上连接有下注水管22;还在下毛毡件2的下方设置污水收集槽4;还包括依次连接的夹紧件5、拉线6、收线组件7构成的拉动机构,其用于拉动铜箔向斜坡方向动作而发生位移;其中的倾斜角为30度,夹紧件5为“E”字形状。

本发明的创新点在于,待清洗的铜箔3穿行在上毛毡件1和下毛毡件2之间,通过上注水管12和下注水管22的冲水作用,以及毛毡的擦拭作用,实现对铜箔的持续清洗;同时由于倾斜角的存在,所以清洗运行中的水有一部分会顺着斜坡往下流,从而将移动中的铜箔后部分也进行了预冲洗,因此增加了清洗的用水效率,达到节约清洗用水总量。

以上显示和描述了本发明的基本原理、主要特征及优点。本行业的技术人员应该了解,本发明不受上述实施例的限制,上述实施例和说明书中描述的只是说明本发明的原理,在不脱离本发明精神和范围的前提下,本发明还会有各种变化和改进,这些变化和改进都落入要求保护的本发明范围内。本发明要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。

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