[发明专利]产生深度信息的方法与装置有效
| 申请号: | 201410155136.X | 申请日: | 2014-04-17 |
| 公开(公告)号: | CN105007475B | 公开(公告)日: | 2017-08-04 |
| 发明(设计)人: | 李运锦;曾家俊;锺育佳 | 申请(专利权)人: | 聚晶半导体股份有限公司 |
| 主分类号: | H04N13/00 | 分类号: | H04N13/00;H04N13/02 |
| 代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司11205 | 代理人: | 臧建明 |
| 地址: | 中国台湾新竹科学*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 产生 深度 信息 方法 装置 | ||
1.一种产生深度信息的方法,其特征在于,适用于电子装置,所述方法包括:
取得由立体成像系统拍摄的左图像及右图像,并对该左图像与该右图像进行三维深度估测,以获取关联于该左图像与该右图像其中之一且对应至多个第一像素的主深度图,其中该主深度图纪录分别对应至所述第一像素的多个主深度值;
依据各所述第一像素的像素信息,将关联于该主深度图的该左图像或该右图像划分成多个相关块,以获取包括所述相关块的块分布图;
利用该块分布图来判断所述第一像素所对应的所述主深度值是否符合置信条件,并将所述主深度值中不符合该置信条件的多个无效深度值从该主深度图中移除,从而产生包括多个破洞的待修复深度图,
其中利用该块分布图来判断所述第一像素所对应的所述主深度值是否符合该置信条件,并将所述主深度值中不符合该置信条件的所述无效深度值从该主深度图中移除,从而产生包括所述破洞的该待修复深度图的步骤包括:
依据该块分布图将该主深度图分成多个深度块,并分别对各所述深度块内的所述主深度值进行统计运算而获取统计结果;以及依据该统计结果判断所述主深度值是否为所述无效深度值中的多个第一无效深度值,并将所述第一无效深度值从该主深度图中移除,从而产生包括所述破洞中的多个第一破洞的该待修复深度图;以及
利用该块分布图而分别对该待修复深度图中的所述破洞产生多个优化深度值,并将所述优化深度值填补至该待修复深度图而产生优化深度图。
2.根据权利要求1所述的产生深度信息的方法,其特征在于,依据各所述第一像素的该像素信息,将关联于该主深度图的该左图像或该右图像划分成所述相关块,以获取包括所述相关块的该块分布图的步骤包括:
比对所述第一像素中相互相邻的第一相邻像素与第二相邻像素,以判断该第一相邻像素与该第二相邻像素之间的像素值差是否小于差异门槛值;以及
若该像素值差小于该差异门槛值,连接该第一相邻像素与该第二相邻像素而形成所述相关块中的第一相关块,其中该第一相关块包括该第一相邻像素与该第二相邻像素。
3.根据权利要求2所述的产生深度信息的方法,其特征在于,依据各所述第一像素的该像素信息,将关联于该主深度图的该左图像或该右图像划分成所述相关块,以获取包括所述相关块的该块分布图的步骤还包括:
依据尺寸门槛值来限定各所述相关块的块尺寸而获取该块分布图,其中各所述相关块的块尺寸不大于该尺寸门槛值。
4.根据权利要求1所述的产生深度信息的方法,其特征在于,在将所述第一无效深度值从该主深度图中移除而产生所述破洞中的所述第一破洞的步骤之后,还包括:
分别以非为所述第一无效深度值的所述主深度值中的多个第一有效深度值为中心,计算限定范围内所述第一无效深度值的多个无效密度值;
依据所述无效密度值是否大于密度门槛值分别判断所述第一有效深度值是否为所述无效深度值中的多个第二无效深度值;以及
将所述第二无效深度值从该主深度图中移除,从而产生包括所述破洞中的多个第二破洞的该待修复深度图。
5.根据权利要求1所述的产生深度信息的方法,其特征在于,还包括:
对该左图像与该右图像进行该三维深度估测,以获取关联于该左图像与该右图像的另一且对应至多个第二像素的辅深度图,且该辅深度图纪录各所述第二像素的辅助深度值;以及
比对所述主深度图与所述辅深度图,将不符合相互对应的所述辅助深度值的所述主深度值从所述主深度图中移除,从而产生包括所述破洞中的多个第三破洞的该待修复深度图。
6.根据权利要求3所述的产生深度信息的方法,其特征在于,该块分布图依据该差异门槛值以及该尺寸门槛值而具有切割精细度,该块分布图包括第一块分布图与第二块分布图,而该第一块分布图的该切割精细度不同于该第二块分布图的该切割精细度。
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