[发明专利]用于薄膜沉积工艺的装置

权利要求书

1.一种用于薄膜沉积工艺的装置，其特征在于，包括：

外壳；

多孔喷淋头，所述多孔喷淋头具有沿上下方向贯通的多个喷淋孔，所述多孔喷淋头设在所述外壳内并将所述外壳内部间隔出位于所述多孔喷淋头上方的第一腔室和位于所述多孔喷淋头下方的第二腔室；

第一导向叶片，所述第一导向叶片可旋转地设在所述第一腔室内的上部；

第二导向叶片，所述第二导向叶片设在所述第一腔室内并邻近所述多孔喷淋头设置，所述第二导向叶片可绕竖直方向旋转；以及

升降座，所述升降座设在所述第二腔室的底部。

2.根据权利要去1所述的用于薄膜沉积工艺的装置，其特征在于，进一步包括：

第一驱动电机；驱动齿轮，所述驱动齿轮与所述第一驱动电机的第一电机轴连接；

外齿圈，所述外齿圈定位在所述第一腔室内且可绕竖直方向旋转，所述外齿圈的外周壁上的齿由所述外壳的侧壁伸出并与所述驱动齿轮啮合，所述第二导向叶片设在所述外齿圈上。

3.根据权利要去2所述的用于薄膜沉积工艺的装置，其特征在于，外壳包括：

上壳体和下壳体；

支架，所述支架与所述上壳体和所述下壳体分别连接，以使上壳体的下端面与所述下壳体上端面具有预定距离，其中

所述外齿圈位于所述上壳体和所述下壳体之间，所述外齿圈的上端面与所述上壳体的下端面相对，所述外齿圈的下端面与所述下壳体的上端面相对。

4.根据权利要去3所述的用于薄膜沉积工艺的装置，其特征在于，所述外齿圈的上端面与所述上壳体的下端面之间设有第一密封圈，所述外齿圈的下端面与所述下壳体的上端面之间设有第二密封圈。

5.根据权利要去3所述的用于薄膜沉积工艺的装置，其特征在于，进一步包括环形密封罩，所述环形密封罩与所述上壳体和所述下壳体分别连接并罩设在所述外齿圈的外侧。

6.根据权利要去3所述的用于薄膜沉积工艺的装置，其特征在于，所述外齿圈的下端面设有沿周向方向设置的、向下凸出的环形凸出部，所述下壳体的上端设有与所述环形凸出部配合的交叉轴承。

7.根据权利要去3所述的用于薄膜沉积工艺的装置，其特征在于，所述外齿圈的上端面上形成有沿周向方向设置的环形滑槽，所述环形滑槽内设有环形滑块。

8.根据权利要去2所述的用于薄膜沉积工艺的装置，其特征在于，进一步包括第二驱动电机，所述第二驱动电机设在所述外壳的上端面上，所述第二驱动电机的第二电机轴由所述外壳的上端伸入到所述第一腔室内，并与所述第一导向叶片连接。

9.根据权利要去1所述的用于薄膜沉积工艺的装置，其特征在于，所述外壳底端设有与所述升降座连接的折叠密封箱。

10.根据权利要去1所述的用于薄膜沉积工艺的装置，其特征在于，所述多孔喷淋头通过环形托架与所述外壳的内壁连接。