[发明专利]硬掩模表面处理

权利要求书

1.一种硬掩模组合物，所述组合物包括：

有机金属化合物；

表面能为20-40erg/cm²的表面处理聚合物，所述表面处理聚合物包含选自羟基、被保护的羟基、被保护的羧基及其混合的表面处理基团；和

溶剂，

所述表面处理聚合物包括小于或等于20摩尔％单体，所述单体包括一个或多个表面处理基团，

其中所述有机金属化合物选自：

()公式（1）的化合物

其中每个X独立的选自二酮、C_2-20多元醇和C_1-20醇盐；且M为第3族至第14族的金属；

（）低聚物，所述低聚物包括含第3族至第14族金属的侧基；

（）公式（2）的化合物

其中R¹=H或CH₃；M=第3族至第14族的金属；L为配体；n指的是配体的数量，且为1-4的整数；

（）公式（3）的化合物

其中R²=C_1-6烷基；M¹为第3族至第14族的金属；R³=C_2-6亚烷基-X-或C_2-6次烷基-X-;每个X独立的选自O和S；z为1-5的整数；L¹为配体；m 指的是配体的数量, 且为1-4的整数；p=2-25的整数；以及

（）它们的混合物。

2.权利要求1的组合物，其中所述表面处理聚合物包括被保护的羧基。

3.权利要求2的组合物，其中所述被保护的羧基包括具有季碳的酯，所述季碳与酯基的烷氧原子直接相连。

4.权利要求1的组合物，其中所述表面处理聚合物包括作为聚合单元的一种或多种含表面处理基团的单体，所述表面处理基团选自羟基、被保护的羟基、被保护的羧基和它们的混合物。

5.权利要求1的组合物，其中所述表面处理聚合物的含量为0.1-10wt%，以组合物的重量为基准。

6.权利要求1的组合物，其中所述表面处理基团选自被保护的羟基、被保护的羧基和它们混合物。

7.一种形成含氧金属硬掩模层的方法，所述方法包括：

提供基体；

在所述基体表面上涂覆涂权利要求1的组合物的膜；

促使所述表面处理聚合物迁移到所述膜的表面；以及

然后固化所述膜，形成含氧金属硬掩模层。

8.权利要求7所述的方法，其中固化的含氧金属硬掩模层的水接触角为55-70°。

9.权利要求7所述的方法，其不含有独立的将含氧金属硬掩模层与表面处理聚合物接触的步骤。

10.权利要求7所述的方法，其中在不分解所述表面处理聚合物的温度固化所述膜。

11.形成图案化含氧金属硬掩模的方法，所述方法包括：

提供基体；

在基体表面上涂覆组合物的膜，所述组合物包括有机金属化合物、表面能为20-40erg/cm²的表面处理聚合物和溶剂，所述表面处理聚合物包括选自被保护的羟基、被保护的羧基和它们混合物的表面处理基团，所述表面处理聚合物包括小于或等于20摩尔％单体，所述单体包括表面处理基团；

促使表面处理聚合物迁移至膜表面；

然后固化所述膜，形成具有图案化表面的含氧金属硬掩模层，该表面具有不同表面能区域，

其中所述有机金属化合物选自：

() 公式（1）的化合物

其中每个X独立的选自二酮、C_2-20多元醇和C_1-20醇盐；且M为第3族至第14族的金属；

（）低聚物，所述低聚物包括含第3族至第14族金属的侧基；

（）公式（2）的化合物

其中R¹=H或CH₃；M=第3族至第14族的金属；L为配体；n指的是配体的数量，且为1-4的整数；

（）公式（3）的化合物

其中R²=C_1-6烷基；M¹为第3族至第14族的金属；R³=C_2-6亚烷基-X-或C_2-6次烷基-X-;每个X独立的选自O和S；z为1-5的整数；L¹为配体；m 指的是配体的数量, 且为1-4的整数；p=2-25的整数；以及

（）它们的混合物。