[发明专利]一种清洁设备和转印系统

说明书

技术领域

本发明涉及平板显示领域的涂布技术，具体地，涉及一种清洁设备和转印系统。

背景技术

在液晶显示面板（LCD）的生产过程中，为了使液晶分子能够正确的取向，需要在阵列基板（Array）和彩膜基板（CF）的表面涂覆一层聚酰亚胺（PI）膜，然后在PI膜上进行摩擦处理，以实现液晶分子的取向。

在阵列基板和彩膜基板上涂覆PI膜一般采用高效的转印版（APR版）转印技术。转印版转印的设备基本结构如图1所示，主要包括：设备框架1、转印版2、辊轮3、辊轴4和工作台5。其中，辊轴4固定在设备框架1的侧壁上，辊轴4的转动带动与其连接的辊轮3转动，图1中矩形的转印版2包裹在辊轮3的侧表面上，工作台5上用于放置玻璃基板9（如阵列基板或彩膜基板），当玻璃基板9放置在工作台5上后，包裹在辊轮3上的转印版2与玻璃基板9接触；借助工作台5的传动功能，玻璃基板9在工作台5的流水线上传动，辊轮3也同时转动，从而将转印版2上用于形成PI膜的PI液涂覆在玻璃基板9上，形成PI膜。

通常，如图2所示，根据工艺设计需要，转印版表面设计为网状排布的凸峰21，相邻的凸峰21之间间隔形成凹谷22。凸峰21和凹谷22的作用主要是吸附PI液，然后在转印版的转印过程中将PI液涂覆在玻璃基板上。转印版在转印完毕后，在凸峰21上和凹谷22内通常会残留一定量的PI液，这使转印版不能直接用于再次转印，需要将其从辊轮上拆卸下来并送往清洗设备进行清洗。将转印版送往清洗设备的过程中需要大量的时间，残留在凸峰21上和凹谷22内的PI液通常都已固化为PI颗粒物，PI颗粒物比较难以去除。

现有的对转印版2的清洗通常是将转印版2垂直（如图3所示）或水平放置于清洗槽6内，然后通过清洗溶剂对其进行清洗。由于从转印到清洗的过程中，转印版2由包裹在辊轮上的弯曲状态（如图4所示）转换为垂直或水平放置的直面状态（如图2所示），相邻的凸峰21会对夹在中间的凹谷22产生压力，该压力会将凹谷22内残留的已固化的PI颗粒物夹紧，并减少了PI颗粒物与清洗溶剂的接触面积，因此，凹谷22内的PI颗粒物会严重残留，而残留在凸峰21顶面的PI颗粒物由于在清洗槽6内暴露面积足够而很容易被清洗掉。

当转印版2再次使用时，会再次经历由垂直或水平放置的直面状态（如图2所示）转换为包裹在辊轮上的弯曲状态（如图4所示），此时，夹在凹谷22内的残留PI颗粒物会因受到两侧凸峰21的拉力而松动，且增加了与即将涂覆的PI液的浸润面积，由于PI液与PI颗粒物的极性相似，根据极性相似相吸性原理，夹在凹谷22内的残留的PI颗粒物会在转印的过程中大量转移出来，造成涂覆在玻璃基板上的PI膜在固化前出现固体和液体的两相不容；在PI膜的后续固化过程中，由于已经产生了两相不容的体系，所以最终会在固化后的PI膜层上出现一个分相的异物区域或者点，导致LCD在点亮之后会出现异常点，严重影响显示质量。

发明内容

本发明针对现有技术中存在的上述技术问题，提供一种清洁设备和转印系统。该清洁设备通过设置具有凸弧面的支撑结构，并将转印版附着于凸弧面上，使转印版具有与凸弧面形状相同的弧面形状，能够使转印版在被清洁时呈弯曲状态，从而增大了转印版与清洁剂的接触面积，进而能够有效的去除残留于转印版上的转印材料，提高转印版的清洁度，同时还节约了成本并提高了显示面板的显示品质。

本发明提供一种清洁设备，用于对转印版进行清洁，包括清洁机构，还包括支撑结构，所述支撑结构设置于所述清洁机构内，所述支撑结构设置有凸弧面，所述转印版附着于所述凸弧面上，所述转印版具有与所述凸弧面形状相同的弧面形状。

优选地，所述转印版具有转印面以及与所述转印面相背的附着面，所述转印面用于对转印材料进行转印，所述转印面上均匀分布有网点状凸峰，相邻的所述凸峰之间间隔形成凹谷；所述附着面能附着在所述凸弧面上。

优选地，所述转印版在转印时能形成弧面，所述凸弧面的弧面半径小于等于所述转印版在转印时所形成的弧面半径。

优选地，所述支撑结构还包括连接件，所述连接件活动设置于所述清洁机构内，所述连接件能带动所述凸弧面在所述清洁机构内运动。

优选地，所述支撑结构为圆柱体辊子，所述凸弧面为所述圆柱体辊子的辊面、所述连接件为所述圆柱体辊子的辊轴；所述支撑结构为圆柱形筒或不闭合的圆柱形筒，所述凸弧面为所述圆柱形筒或所述不闭合的圆柱形筒的外筒面、所述连接件为所述圆柱形筒或所述不闭合的圆柱形筒的筒轴。