[发明专利]一种圆环形阵列稳健旁瓣控制超指向性波束形成方法有效
| 申请号: | 201410146276.0 | 申请日: | 2014-04-11 |
| 公开(公告)号: | CN103902830B | 公开(公告)日: | 2017-01-04 |
| 发明(设计)人: | 杨益新;汪勇;马远良;何正耀 | 申请(专利权)人: | 西北工业大学 |
| 主分类号: | G06F19/00 | 分类号: | G06F19/00;G01S7/52 |
| 代理公司: | 西北工业大学专利中心61204 | 代理人: | 王鲜凯 |
| 地址: | 710072 *** | 国省代码: | 台湾;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 圆环 阵列 稳健 控制 指向 波束 形成 方法 | ||
1.一种圆环形阵列稳健旁瓣控制超指向性波束形成方法,其特征在于步骤如下:
步骤1:计算误差敏感度函数其中:第m阶特征波束的误差敏感度函数为
所述
所述ps(θ,φ)=e-ikasinθcos(φ-φs),其中a为圆环形阵列半径,k=2π/λ,λ表示入射平面波的波长,φs=sβ,β=2π/M;
所述ρs=sinc(k.Δrs),Δrs=2asin(sβ/2)为第m和m'号阵元间的距离,s=m-m′,(θ0,φ0)是预先设定的指向角,α是用来归一化指向角(θ0,φ0)方向波束响应的参数;
步骤2:估计最大误差敏感度函数其中N为最大阶数;
所述
s.t.Re{[εοE(θ0,φ0)]Hω}=1,
步骤3:求解权值向量ωH(εοω)≤σ,
Re{[εοE(θ00,φj)]Hω}≤δ,
φj∈φSL,j=1,...,NSL
其中:ω=[ω0,ω1,...,ωM/2T]为所要求解的向量,Λn=diag{ε0λ0,ε1λ1,...,εM/2λM/2},ε=[ε0,ε1,...,εM/2]T,E=[E0,E1,...,EM/2]T,符号ο表示Hadamard积,上标T表示转置,上标H表示共轭转置,φSL=[0,φ0-Δ]∪[φ0+Δ,2π],Δ为期望主瓣宽度的一半,σ是误差敏感度函数的上界,且σ=TN,δj是期望旁瓣级,φj是旁瓣区域离散后的NSL个方位角;
上述优化问题由二阶锥规划算法计算求解,且求解向量的维数减为(M/2+1);
步骤4:由两种方法合成最终波束:
1、根据公式计算:B(θ,φ)=Re{ωΗ[εοE(θ,φ)]};
2、由以下步骤计算:
a)由ω构造出其中元素满足m=1,2,...M/2-1;
b)求出一般化的权值向量其中V=[v0,v1,...,vM-1],vm=M-1/2[1eimβ...ei(M-1)mβ]T;
c)将w代入公式得到最终所需要的波束:
B(θ,φ)=wHP(θ,φ)
其中P(θ,φ)=[p0(θ,φ),p1(θ,φ),...,pM-1(θ,φ)]T为阵列流形向量。
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