[发明专利]基于Zernike矩的DWT‑SVD鲁棒盲水印方法有效

专利信息
申请号: 201410146119.X 申请日: 2014-04-11
公开(公告)号: CN103955880B 公开(公告)日: 2018-03-13
发明(设计)人: 叶学义;邓猛;宋倩倩;陈华华;张维笑;赵知劲 申请(专利权)人: 杭州电子科技大学
主分类号: G06T1/00 分类号: G06T1/00
代理公司: 杭州君度专利代理事务所(特殊普通合伙)33240 代理人: 黄前泽
地址: 310018 浙*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 基于 zernike dwt svd 鲁棒盲 水印 方法
【说明书】:

技术领域

发明属于信息安全的技术领域,特别涉及一种基于Zernike矩的离散小波变换和奇异值分解(DWT-SVD)鲁棒盲水印方法。

背景技术

数字水印技术因其在版权保护和内容认证等方面的重要应用价值,已成为信息隐藏技术的一个研究热点。数字水印技术通过将数字、序列号、文字、图像标志等信息嵌入到媒体中,在嵌入过程中对载体进行尽量小的修改,以达到最强的鲁棒性,当嵌入水印后的媒体受到攻击后仍然可以恢复水印或者检测出水印的存在。隐形水印随着信息安全需求的飞速发展,正在得到越来越多研究者的关注。

图像隐形水印算法一般需要满足以下基本要求:1)不可见性:加有水印后的图像不能有视觉质量的下降,与原始图像对比,很难发现二者的区别;2)鲁棒性:加入图像中的水印不会因变换处理(如几何攻击、噪声、滤波、有损压缩攻击等)而丢失,水印经提取后应清晰可辨。

现有的数字水印算法主要分为空间域和变换域(DWT、DCT和DFT等)两类。DWT域水印算法对有损压缩和高频滤波具有较好的抗攻击性,而且小波分解后的低频子带集中了图像的大部分能量,是鲁棒水印嵌入的合适位置。因此基于DWT的数字水印算法受到了广泛关注。为了克服小波变换不具有几何不变性的缺点,研究学者利用SVD抵抗几何攻击良好的特性,将其引入数字水印领域。

现有的算法对常见的信号处理具有很好的抵抗能力,但抵抗几何攻击的能力较弱。本发明利用Zernike矩的旋转、缩放不变性,并结合DWT以及SVD在数字水印方面的优势,通过Zernike矩矩值判断攻击类型并进行校正,获得了对旋转、缩放攻击的鲁棒性,而且本发明对常规信号处理也具有很好的鲁棒性。

发明内容

本发明的目的就是针对现有水印算法抵抗几何攻击能力较弱的问题,提出了一种基于Zernike矩的DWT-SVD鲁棒水印方法。

本发明方法包括水印嵌入方法和水印提取方法。水印嵌入方法首先对原始图像进行离散小波变换(DWT),之后将其低频子带分块并对每小块进行奇异值分解(SVD),然后将待嵌入水印进行混沌加密,通过量化每小块奇异值矩阵的欧氏范数嵌入水印,最后保存水印图像的Zernike矩值作为密钥,用于判断攻击类型和校正。水印提取方法是水印嵌入方法的逆过程,包括对受攻击图像进行校正、水印提取,水印解密和恢复。

水印嵌入方法的具体步骤是:

由于旋转攻击会导致图像边角信息的丢失,为了使Zernike矩计算更加精确,选择载体图像的内切圆作为Zernike矩计算域,并选择该圆的内接正方形作为水印嵌入区域。

步骤1:获取正方形的原始载体图像I(M,M),M是图像的行和列,I的内切圆记作S,S的内接正方形用来嵌入水印,记做x,对x进行一级离散小波变换(DWT),得到低频子带LL、高频子带HH、混合子带HL和LH,其矩阵大小为将其低频子带LL划分为互不重叠的n×n个大小为m×m的子块,n是m的整数倍,将每小块按行排列,Ai表示第i个矩阵块。

步骤2:对每个分块矩阵进行奇异值分解(SVD),Yi=[λ12,…λj…λr],λj表示奇异值矩阵Si的第j个非零奇异值,其中j=1,2,…r,r是矩阵Ai的秩,Yi为非零奇异值组成的向量。

步骤3:对待嵌入的水印W采用logistic映射混沌模型进行混沌加密得到加密后水印W0,记映射初值为X0,混沌系数μ∈(3.5699,4],然后将加密后的水印按行排成一列,将初值X0和μ当作密钥,缺少任何一个参数或者参数不正确,都无法解密。

步骤4:计算向量Yi的欧几里德范数,选择Δ作为Norm(Yi)的量化步长,令N=[Norm(Yi)/Δ],[…]表示取整。

步骤5:根据如下规则嵌入比特b,b表示待嵌入比特:

步骤6:对计算欧几里德范数,其中根据向量得到新的奇异值矩阵重构新的矩阵块得到新的低频部分LL′。

步骤7:根据LL′、HL、LH、HH进行逆离散小波变换(IDWT),重构出嵌入水印的图像;计算水印图像的Zernike矩值作为校正几何攻击的参数,记为密钥K。

水印提取方法的具体步骤是:

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于杭州电子科技大学,未经杭州电子科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201410146119.X/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top