[发明专利]薄膜晶体管阵列面板及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201410143401.2 申请日: 2014-04-10
公开(公告)号: CN104102057B 公开(公告)日: 2020-03-10
发明(设计)人: 金璱基;金昇辰;朴宰贤;许政旭 申请(专利权)人: 三星显示有限公司
主分类号: G02F1/136 分类号: G02F1/136;G02F1/1362;G02F1/1368;G02F1/1343;H01L27/12
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 张波
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 薄膜晶体管 阵列 面板 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种薄膜晶体管阵列面板,包括:

绝缘衬底;

在所述绝缘衬底上的栅线和数据线,所述栅线包括栅极焊盘,所述数据线包括数据焊盘;

在所述栅线和所述数据线上的第一钝化层;

在所述第一钝化层上的有机层;

在所述有机层上的第一电极;

设置在所述栅极焊盘或所述数据焊盘的周边区域处的阻挡层;

在所述第一电极上的第二钝化层;

在所述第二钝化层上的第二电极;

覆盖所述第一电极的边缘处的侧表面的第三钝化层;以及

设置在所述栅极焊盘或所述数据焊盘上的接触辅助件,

其中,所述第三钝化层在所述第二钝化层与所述有机层之间并且不与所述第一电极重叠,

所述第二钝化层和所述第三钝化层暴露所述有机层的边缘,

在平面图中,所述第二钝化层与所述第一电极的侧表面和边缘重叠,以及

所述阻挡层由与所述第一电极相同的层制成并且所述阻挡层不重叠所述接触辅助件。

2.如权利要求1所述的薄膜晶体管阵列面板,其中:

所述第一电极暴露所述第二钝化层的边缘,以及

所述第三钝化层的边缘与所述第二钝化层的边缘基本一致。

3.如权利要求2所述的薄膜晶体管阵列面板,其中:

所述阻挡层在所述有机层上。

4.如权利要求3所述的薄膜晶体管阵列面板,其中:

在所述栅极焊盘或所述数据焊盘的周边区域处的所述第二钝化层与在所述栅极焊盘或所述数据焊盘的周边区域处的所述阻挡层的边缘重叠,

所述阻挡层暴露在所述栅极焊盘或所述数据焊盘的周边区域处的所述第二钝化层的边缘;

所述第三钝化层覆盖在所述栅极焊盘或所述数据焊盘的周边区域处的所述阻挡层的边缘处的侧表面,以及

在所述栅极焊盘或所述数据焊盘的周边区域处的所述第三钝化层的边缘与在所述栅极焊盘或所述数据焊盘的周边区域处的所述第二钝化层的边缘基本一致。

5.如权利要求1所述的薄膜晶体管阵列面板,其中:

所述第一电极和所述第二电极中的一个具有平面形状,所述第一电极和所述第二电极中的另一个包括分支电极,所述分支电极由所述另一个电极中限定的开口部分来限定。

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