[发明专利]用于光生阴极保护的Ag/SnO2/TiO2复合膜光阳极的制备方法

权利要求书

1.一种用于光生阴极保护的Ag/SnO₂/TiO₂复合膜光阳极的制备方法，其特征在于：

1)钛基体表面TiO₂纳米管阵列膜的制备：以铂作为对电极，钛基体为阳极，在NH₄F溶解液中进行阳极氧化后，将钛基体样品煅烧，再随炉冷却至室温，即可在钛基体表面制得TiO₂纳米管阵列膜；

2)Ag/SnO₂/TiO₂复合膜光阳极的制备：在TiO₂纳米管阵列膜表面制备Ag和SnO₂纳米颗粒，是将15～20g SnCl₂·2H₂O充分溶解于200mL乙醇中，80℃水浴加热并不断搅拌进而获得浓度为0.5～1mol/L的SnO₂溶胶，静置1d；将附有TiO₂纳米管阵列膜的钛基体放在SnO₂溶胶中浸泡20min，缓慢提拉出钛基体，经过干燥，煅烧，然后循环以上步骤5～50次，即在钛基体表面上得到SnO₂/TiO₂复合膜；将附有SnO₂/TiO₂复合膜的钛基体放在0.01～0.5mol/LAgNO₃溶液中，用紫外灯照射30min，再用去离子水清洗，即得用于光生阴极保护的Ag/SnO₂/TiO₂复合膜光阳极。

2.按权利要求1所述的用于光生阴极保护的Ag/SnO₂/TiO₂复合膜光阳极的制备方法，其特征在于：所述步骤1）中钛基体为将钛箔依次在丙酮、无水乙醇和去离子水中超声波清洗得到钛基体，待用。

3.按权利要求1或2所述的用于光生阴极保护的Ag/SnO₂/TiO₂复合膜光阳极的制备方法，其特征在于：所述钛基体中钛箔含量在99.9%以上，厚度为0.1mm的纯钛箔；钛基体试样为长方形，长度为15～25mm，宽度为10～15mm。

4.按权利要求1所述的用于光生阴极保护的Ag/SnO₂/TiO₂复合膜光阳极的制备方法，其特征在于：所述步骤1)中NH₄F溶解液为将NH₄F溶解在去离子水中，而后再加入乙二醇混匀，其中NH₄F、去离子水和乙二醇的质量比为2：(20～30)：400。

5.按权利要求1所述的用于光生阴极保护的Ag/SnO₂/TiO₂复合膜光阳极的制备方法，其特征在于：所述步骤1)中阳极氧化的条件为于30V电压下阳极氧化30min。

6.按权利要求1所述的用于光生阴极保护的Ag/SnO₂/TiO₂复合膜光阳极的制备方法，其特征在于：所述步骤2)的煅烧是将钛基体样品放置在马弗炉中于450-550℃下煅烧1-2h。

7.按权利要求1所述的用于光生阴极保护的Ag/SnO₂/TiO₂复合膜光阳极的制备方法，其特征在于：所述步骤3)的煅烧是将样品放置在马弗炉中于450-550℃下煅烧1-2h。