[发明专利]六氯乙硅烷机台及其保养维护方法在审
申请号: | 201410141318.1 | 申请日: | 2014-04-08 |
公开(公告)号: | CN104073777A | 公开(公告)日: | 2014-10-01 |
发明(设计)人: | 陈志平;俞玮;万家俊 | 申请(专利权)人: | 上海华力微电子有限公司 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 王宏婧 |
地址: | 201203 上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 六氯乙 硅烷 机台 及其 保养 维护 方法 | ||
1.一种六氯乙硅烷机台,其特征在于,所述六氯乙硅烷机台包括:
工艺机台,所述工艺机台为六氯乙硅烷之工艺制程腔室;
泵抽单元,所述泵抽单元通过具有主阀的管路与所述工艺机台连接;
冷阱装置,所述冷阱装置进一步包括金属隔离网以及设置在所述金属隔离网外围的冷却装置,且所述冷阱装置设置在所述管路之异于所述泵抽单元的一端与所述主阀之间。
2.如权利要求1所述的六氯乙硅烷机台,其特征在于,所述冷阱装置之金属隔离网活动设置在所述管路之异于所述泵抽单元的一端与所述主阀之间。
3.如权利要求1所述的六氯乙硅烷机台,其特征在于,所述冷阱装置之金属隔离网为抽屉式设计。
4.如权利要求1所述的六氯乙硅烷机台,其特征在于,所述冷阱装置之冷却装置为循环冷却水。
5.一种如权利要求1所述的六氯乙硅烷机台,其特征在于,所述六氯乙硅烷机台的保养维护,包括:
执行步骤S1:所述工艺机台完成工艺制程;
执行步骤S2:所述工艺机台之工艺制程气体在所述泵抽单元的作用下进入所述管路;
执行步骤S3:所述冷阱装置之冷却装置将所述工艺制程气体冷却,并将所述副产物溅落在所述冷阱装置之金属隔离网上;
执行步骤S4:在所述六氯乙硅烷机台进行保养维护时,抽出所述冷阱装置之金属隔离网,并进行更换。
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C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的