[发明专利]精密对位平台的定位方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种精密对位平台，特别涉及一种整合有块状刚性接口的精密对位平台定位方法创新技术。

背景技术

随着高科技时代的来临，多种制造加工的处理模式已进入奈米等级，众多精密产品于制程中有更高更严苛的精度要求，尤其是光电及晶圆产品，其精密定位技术成为必备条件。

精密加工制程中，对位平台（或称对位滑台）为产业界普遍采用的设备；目前对位平台的典型结构形态，主要是在一活动平台与一基座之间横设有数组X轴向与Y轴向的螺杆导动装置，等螺杆导动装置的组装座部被定位于基座，螺杆导动装置的伸缩作动端则呈滑动配合状态连结于活动平台；藉此，其运作时能够透过控制等螺杆导动装置的其中单组作动或整体同动等方式，达到驱使活动平台位移或转动以调校加工精准度的目的。

前述对位平台结构于使用上虽确可达到其精密位移调校的功能，但其问题点却是出在于定位的部份，概因，对位平台结构无论处于作动状态或定止状态时，其活动平台的支撑力与定位性完全是仰赖等螺杆导动装置的连接关系来达成，然而，由于等螺杆导动装置与活动平台之间呈滑动配合连接关系，此种组合状态于二者各相连结处难免存在有配合公差，而等配合公差累积的结果，势必造成对位平台于定止状态时并无法达到刚性稳固定位状态的问题，亦即对于重压力、侧向作用力等并无足够的承载支撑能力，此一问题对于三轴配置形态的对位平台而言尤为严重，因其活动平台定止时，其中一导动轴呈较大自由度连结状态，故承载支撑能力较弱；而另一种四轴配置形态对位平台，其侧向承载力虽优于前述三轴配置形态者，但其缺点是制造成本大幅提高，且仍旧存在组合累进公差问题而无法达到刚性稳固支撑状态；是以综合上揭习知对位平台的结构设计，其加工过程中当活动平台受力达一定程度时，往往容易产生抖振、偏移现象而严重影响到最终产品加工精度与质量，如此而难以符合产业界预期的高精度要求，实有必要再加以思索突破。

发明内容

本发明的主要目的在于提供一种精密对位平台的定位方法，其所欲解决的技术问题，针对如何研发出一种更具理想实用性的新式精密对位平台定位方法为目标加以思索创新突破。应用于一精密对位平台的活动平台与基座之间，活动平台与基座之间组设有至少两组导动装置。

为达到上述目的，本发明采用以下技术方案：

一种精密对位平台的定位方法包括：于活动平台与基座相对应位置设置至少一块状刚性接口；令所述块状刚性接口具一定位端面定位于活动平台或基座任其中一者，块状刚性接口并具一抵靠端面，当活动平台未载重时，令抵靠端面与基座或活动平台之间保有一可活动间隙；当活动平台载重受压时，得令抵靠端面与基座或活动平台之间的可活动间隙消除而呈现彼此抵靠密合状态。

藉此创新方法，本发明的主要效果与优点，当精密对位平台的活动平台通过导动装置的驱动达成对位时，能够通过块状刚性接口产生刚性支撑作用力，以加强活动平台的载重方向结构强度、有效支撑对抗活动平台的重压力，而能增益其结构强度与稳固性。

本发明的另一目的，在于所述块状刚性接口可为一可控制式磁吸接口，且所述定位方法中并包括一控制手段以控制切换可控制式磁吸接口的磁吸力启闭状态，令活动平台获得加强定位效果，进以消除构件组合间隙与累进公差，且有效支撑对抗活动平台的侧向力、重压力及滚压作用力，进而达到增益精密对位平台的活动平台结构强度与稳固性、大幅提升加工精度质量的实用进步性。

本发明的又一目的，在于定位方法中并包括一气浮控制手段，以使可控制式磁吸接口能够产生气隙，以利于活动平台的作动顺畅性。

附图说明

图1为本发明的方法步骤文本框图。

图2为本发明具体结构实施例的分解立体图。

图3为本发明具体结构实施例的组合立体图。

图4为本发明具体结构实施例的组合剖视图。

图5为本发明的电磁吸附座内部结构立体剖视图。

图6为本发明的气浮控制手段运作状态示意图。

图7为本发明能够有效支撑对抗来自活动平台上于加工过程中所产生的侧向力及重压力的功效示意图。

图8为本发明另一结构实施例的分解立体图。

图9为本发明另一结构实施例的组合立体图。

图10为本发明另一结构实施例的组合剖视图。

图11为本发明另一结构实施例装设于一加工机上的使用状态图。

图12为本发明另一结构实施例的电磁吸附座内部结构立体剖视图。

图13为本发明另一结构实施例可通过喷气孔将气压喷入气隙中形成气浮作用的状态示意图。