[发明专利]一种微纳米颗粒分散分布的分析评估方法有效
申请号: | 201410138109.1 | 申请日: | 2014-04-08 |
公开(公告)号: | CN103903266A | 公开(公告)日: | 2014-07-02 |
发明(设计)人: | 熊振华;袁鑫;盛鑫军;朱向阳 | 申请(专利权)人: | 上海交通大学 |
主分类号: | G06T7/00 | 分类号: | G06T7/00 |
代理公司: | 上海旭诚知识产权代理有限公司 31220 | 代理人: | 郑立 |
地址: | 200240 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 纳米 颗粒 分散 分布 分析 评估 方法 | ||
1.一种微纳米颗粒分散分布的分析评估方法,其特征在于,包括以下步骤:
(1)采集微纳米颗粒显微图像,并进行灰度化处理,得到灰度图像;
(2)采用OTSU大津法对所述灰度图像进行处理,得到二值化图像,去除所述二值化图像中的杂质点和无效连通域;
(3)利用形态学运算处理所述二值化图像,分离相连的连通域,并填补连通域中的孔洞;
(4)添加虚拟颗粒,对添加虚拟颗粒后的图像采用分水岭算法进行图像分割,获得分割后的特征连通域;
(5)计算所述特征连通域的相关数据;
(6)对所述微纳米颗粒分散分布进行评估。
2.根据权利要求1所述的微纳米颗粒分散分布的分析评估方法,其特征在于,步骤(3)中分离相连的连通域,包括以下步骤:
(31)在所有连通域中,寻找像素面积大于1.5A的连通域,其中A为单个微纳米颗粒的标准连通域像素面积范围,所述像素面积大于1.5A的连通域为两个或两个以上所述微纳米颗粒相连的连通域;
(32)选择像素值为1的结构元素,对所述像素面积大于1.5A的连通域进行腐蚀,并重新进行分析,如果所述像素面积大于1.5A的连通域被分割为两个或两个以上的连通域,所述像素面积大于1.5A的连通域为两个或两个以上所述微纳米颗粒相邻的连通域,所述相邻是指所述微纳米颗粒至少相隔一个像素形成的界线;如果所述像素面积大于1.5A的连通域没有被分割,所述像素面积大于1.5A的连通域为两个或两个以上所述微纳米颗粒团聚的连通域。
3.根据权利要求1所述的微纳米颗粒分散分布的分析评估方法,其特征在于,步骤(3)中填补连通域中的孔洞,包括以下步骤:
(33)在所有连通域中,寻找背景像素被前景像素包围的连通域;
(34)在步骤(33)中找到的连通域中,用前景色替换被前景像素包围的背景像素的背景色。
4.根据权利要求1所述的微纳米颗粒分散分布的分析评估方法,其特征在于,步骤(4)中添加虚拟颗粒,包括以下步骤:
(41)在步骤(3)中得到的图像的边界上或边界外侧添加相邻的虚拟颗粒,为采用分水岭算法进行图像分割处理边界处的连通域分割提供边界。
5.根据权利要求1所述的微纳米颗粒分散分布的分析评估方法,其特征在于,步骤(4)中所述分水岭算法采用象素点的欧拉距离作为分割标准。
6.根据权利要求1所述的微纳米颗粒分散分布的分析评估方法,其特征在于,步骤(5)中所述相关数据包括连通域数目、连通域像素面积以及颗粒数目。
7.根据权利要求1所述的微纳米颗粒分散分布的分析评估方法,其特征在于,步骤(6)中对微纳米颗粒分散分布进行评估包括均匀度评估,密度评估以及团聚程度评估。
8.根据权利要求7所述的微纳米颗粒分散分布的分析评估方法,其特征在于,所述均匀度评估包括以下步骤:
(61)计算所有微纳米颗粒所属的所述特征连通域的像素总面积,并计算所述特征连通域像素面积的平均值;
(62)计算所述特征连通域像素面积的标准差,并计算所述标准差与所述平均值的比值COV值,以表征所述微纳米颗粒之间分布的位置均匀度;
(63)计算每个所述特征连通域的质心,通过对所有所述特征连通域的质心求算术平均,获得总质心,并计算所述总质心与图像中心之间的距离和角度,以表征所述微纳米颗粒整体分布的对称性和偏向性。
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