[发明专利]一种基于蜡的刮涂图案化方法有效
| 申请号: | 201410130323.2 | 申请日: | 2014-04-02 |
| 公开(公告)号: | CN103879953A | 公开(公告)日: | 2014-06-25 |
| 发明(设计)人: | 刘宏;高兵兵;顾忠泽 | 申请(专利权)人: | 东南大学 |
| 主分类号: | B81C1/00 | 分类号: | B81C1/00;B01L3/00 |
| 代理公司: | 江苏永衡昭辉律师事务所 32250 | 代理人: | 王斌 |
| 地址: | 210096*** | 国省代码: | 江苏;32 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 基于 图案 方法 | ||
技术领域
本发明属于微加工领域,具体讲一种基于蜡的刮涂图案化方法,即在覆盖有蜡的亲水基底上刮涂水溶液悬浊液,从而使在亲水进行材料图案化的方法。使用该方法成功制备了图案化的光子晶体和纤维素,并应用于快速、高精度的纸微流控分析芯片的制作。
背景技术
表面图案化是指在至少一维的方向上生成微米或者纳米级的规则表面结构的微加工方法,在微型反应器、微型阵列器件、微流控芯片等方面具有应用广泛。表面图案化方法有光刻蚀、基于扫描探针的微机械方法、微接触的印刷术、喷墨打印等,基于蜡的图案化方法主要有丝网印刷法、喷蜡打印机直接打印法等。
光子晶体图案化因其在成像、光学器件、微流控芯片的制作等方面具有良好的应用价值而倍受关注,目前图案化方法主要有喷墨打印和光刻等方法。而在纤维素纸基地底上进行图案化处理,而制成的纸微流控芯片具有成本低、制备方法简单、操作简单、使用后可任意处理等特点。目前纸微流控芯片的制作方法主要有:光刻、切绘、注射法蚀刻、等离子蚀刻、切削、喷蜡打印。
传统的蜡打印微加工方法目前仍具有分辨率低、需要加热、样品消耗大,光刻虽然提高分辨率但是耗时、成本高、操作复杂。喷墨打印需要昂贵的仪器或定制仪器且对操作人员要求较高。除了操作复杂、分辨率低外目前纸上微流控芯片还存在问题是流速过慢,传统的纸芯片需要15-20分钟流过5 cm长的纸通道。而快速检测是微流控芯片制作时必不可少的标准,因此急需一种新的方法进行高分辨率、快速POCT检测。
发明内容
本发明的目的在于提出了一种基于蜡上刮涂的图案化方法,并基于该方法制备光子晶体和微流控芯片。本发明制备方法简单、无需加热、无需昂贵仪器。较常规图案化方法而言分辨率高,具有很好的使用价值。
为解决本发明的技术问题,本发明采用的技术方案如下:
一种基于蜡上刮涂的图案化方法,其特征在于,步骤为:
(1) 对塑料片表面用进行亲水处理,用作基底;
(2) 设计光子晶体图案或微流控通道的图案,并将设计好的图案用蜡打印在基底上;
(3) 将SiO2光子晶体胶体刮涂与打印有光子晶体图案的基底上,使SiO2光子晶体胶体灌注于没有蜡的中空区域;或将酸解后的微晶纤维素悬液刮涂与打印有微流控通道的基底上,使酸解后的微晶纤维素悬液灌注于没有蜡的中空区域;
(4) 溶剂挥发,SiO2光子晶体在中空区域自组装形成有序结构的图案;酸解后的微晶纤维素在中空区域形成微流控通道,将葡萄糖工作液和蛋白工作液分别滴加与微流控通道的两个检测区,吹干后封塑制成微流控芯片。
所述的步骤一的亲水处理方法为:采用Plasma等离子体处理机对塑料片表面处理、用1%-10%(w/w)的吐温-20水溶液处理或食人鱼溶液浸泡。
所述步骤二的图案采用喷蜡打印机打印。
所述步骤四的吹干采用氮气或者空气。
本发明的有益效果是:本发明提出了一种基于蜡上刮涂的图案化方法,由于刮涂的材料被被选择性地沉积在由蜡制成的模板里,因此分辨率高(通道最细~10 μm)、易于制备、可量产制备并具有很好的实用性。
本发明基于蜡的刮涂图案化方法解决了传统图案化方法操作繁琐、成本高、分辨率低、制成的微流控芯片流速慢等缺点,应用于图案化的光子晶体具有简单、快速、有序,应用于POCT检测具有廉价、易操作、进样量少、灵敏、快速的特点。
本发明中涉及的基于蜡上刮涂的图案化的微加工方法与现有技术相比具有以下优点。
1、成本低、制备简易、稳定性高,可批量生产。
2、仅需要自然蒸发、直接打印出蜡的疏水区域因而无需另外加热使蜡融化制作疏水区域、无需昂贵的仪器。
3、通道宽度越细流速越快(最细通道~10 μm时流速~2 mm/s远高于普通纸芯片~0.2 mm/s)、因而越小的芯片反应越灵敏。
4、进样量少。
附图说明
图1为本发明的图案化光子晶体示意图;
图2为本发明的图案化纤维素制作微流控芯片示意图;
图3为本发明方法制备的光子晶体图案示意图;
图4为对本发明光子晶体图案反射光谱表征;
图5为对本发明光子晶体图案扫描电镜表征;
图6为五种芯片的扫描图;
图7为Glu浓度和显色强度的线形图;
图8为BSA浓度和显色强度的线形图。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东南大学,未经东南大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201410130323.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。





