[发明专利]一种涂布装置及其预吐控制方法

说明书

技术领域

本发明涉及显示器件的涂布技术领域，尤其涉及一种涂布装置及其预吐控制方法。

背景技术

目前，在显示器件制造的光刻构图工艺中，常涉及在基板表面涂布光刻胶、曝光、显影这一过程。如图1所示，涂布装置01的结构主要由供胶装置10、加压泵20、以及通过输出管路30与加压泵20连接的涂布喷头40构成。

如图2所示，现有技术中采用涂布装置对被涂布体的表面进行涂布的基本过程为：涂布喷头40在驱动装置的带动下从基板60的一端移动到另一端(图中箭头方向即表示涂布方向)，同时，光刻胶经输出管路到达喷嘴402，并从喷嘴402口中流出而涂布到基板60上，从而完成光刻胶层的涂布。

在实现上述光刻胶的涂布过程中，发明人发现现有技术中至少存在如下问题：

由于在基板的起始阶段，涂布喷头需要在驱动装置的带动下逐渐加速直至稳定的匀速状态(标记为速度ν₁)，而与此同时，与涂布喷头连接的加压泵吐出胶体的速度由加速直至稳定的匀速状态(标记为速度ν₂)，从而配合涂布喷头的移动速度吐出光刻胶，使涂布在基板表面的光刻胶层具有均匀的厚度；然而，由于加压泵的吐胶速度与涂布喷头在基板上方的移动速度都相当快，使得在高速涂布的起始阶段(如图2中虚线部分所示)，加压泵的吐胶速度很难与涂布喷头的移动速度完美配合，在起始阶段难以保证涂布稳定性和膜厚均匀性，从而导致基板上整体光刻胶膜厚均匀性下降，影响显示品质。

发明内容

本发明的实施例提供一种涂布装置及其预吐控制方法，可以提高涂布起始阶段的涂布稳定性及均匀性，减少涂布不良。

为达到上述目的，本发明的实施例采用如下技术方案：

本发明实施例提供了一种涂布装置，包括供胶装置、与所述供胶装置连接的加压泵，所述加压泵上连接有输出管路，所述输出管路包括第一输出支路和第二输出支路；其中，所述第一输出支路连接所述加压泵与涂布喷头；所述第一输出支路上设置有涂布阀门和涂布压力计；所述第二输出支路上设置有预吐阀门、预吐压力计、以及预吐压力调节阀。

优选的，所述第二输出支路上，所述预吐阀门、所述预吐压力计、以及所述预吐压力调节阀沿胶体的吐出方向依次设置。

优选的，所述涂布装置还包括与所述涂布阀门和所述预吐阀门连接的控制器。

优选的，沿胶体的吐出方向，所述涂布装置还包括与所述第二输出支路的末端连接的胶体回收容器。

可选的，所述涂布喷头包括主体和喷嘴；其中，所述喷嘴具有狭缝式的开口。

另一方面，本发明实施例还提供了一种采用针对涂布装置的预吐控制方法，包括：在基板进行涂布前，利用第一输出支路上的涂布压力计获取的吐出胶体的第一压力值对第二输出支路上的预吐压力计获取的吐出胶体的第二压力值进行校准；设定所述第一输出支路上的涂布阀门关闭、所述第二输出支路上的预吐阀门开启；使涂布喷头沿涂布方向开始加速移动，同时，使加压泵开始加速吐胶；待所述涂布喷头加速至额定移动速度、所述加压泵加速至额定吐胶速度、以及所述第二输出支路上的预吐压力计测定所述第二输出支路上吐出胶体的测定压力值等于所述第二压力值后，且当所述涂布喷头移动至预定涂布位置起点时，设定所述涂布阀门开启、所述预吐阀门关闭。

优选的，所述在基板进行涂布前，利用第一输出支路上吐出胶体的第一压力值对第二输出支路上吐出胶体的第二压力值进行校准，包括，设定所述第二输出支路上的预吐阀门关闭、所述第一输出支路上的涂布阀门开启；使加压泵加速至额定吐胶速度，通过所述第一输出支路上的涂布压力计测定吐出胶体的第一压力值；设定所述涂布阀门关闭、所述预吐阀门开启；使加压泵加速至所述额定吐胶速度，通过调节所述第二输出支路上的预吐压力调节阀，使所述第二输出支路上的预吐压力计测定的第二压力值等于所述第一压力值。

本发明实施例提供了一种涂布装置，所述涂布装置包括供胶装置、与所述供胶装置连接的加压泵，所述加压泵上连接有输出管路，所述输出管路包括第一输出支路和第二输出支路。其中，所述第一输出支路连接所述加压泵与涂布喷头；所述第一输出支路上设置有涂布阀门和涂布压力计；所述第二输出支路上设置有预吐阀门、预吐压力计、以及预吐压力调节阀。可以使在涂布开始前所述涂布喷头的移动速度和所述加压泵的吐胶速度均达到相应的稳定状态，避免了现有技术中在高速涂布的起始阶段，由于涂布喷头与加压泵二者之间的速度不匹配而导致的在基板上预定涂布位置的起始阶段内，涂布稳定性较差，且膜厚均匀性较差问题，减少涂布不良。

附图说明