[发明专利]电容式触摸屏及其制作方法

权利要求书

1.一种电容式触摸屏，其至少包括一具有一第一表面的基板、形成在所述第一表面上的多个桥接结构，所述桥接结构至少包括一第一功能层和第二功能层，所述第一功能层形成于所述第一表面，所述第二功能层形成于所述第一功能层上，所述第一功能层至少由与第一表面具有稳定结合性能的材料构成，所述第二功能层至少由具有阻抗低的材料制成，且所述第二功能层的厚度至少大于所述第一功能层的厚度；

还包括形成在第一表面上的触控电极以及绝缘层，所述触控电极形成于所述第一表面上，所述绝缘层形成于所述触控电极上，所述桥接结构形成于所述绝缘层上，所述触控电极包括多个电极单元，所述桥接结构连接相邻的两所述电极单元；

所述第一表面包括第一区域和第二区域，所述第一区域位于所述第一表面的中央，所述第二区域环绕且邻接所述第一区域，所述电容式触摸屏还包括导电引线层，所述导电引线层在第一表面上的投影覆盖所述第二区域，所述触控电极和桥接结构在第一表面上的投影覆盖所述第一区域，所述导电引线层和桥接结构在同一制程中一并制成；

所述第一功能层和第二功能层中均包含有同一种导电元素；

所述同一种导电元素为铜，所述第二功能层由金属铜制成，所述第一功能层由铜的复合金属氧化物制成。

2.如权利要求1所述的电容式触摸屏，其特征在于：所述桥接结构还包括第三功能层，所述第三功能层形成于所述第二功能层之上，所述第三功能层至少由具有保护性能的材料制成，且所述第三功能层完全覆盖所述第一功能层及第二功能层，所述第三功能层的膜厚范围为300-500埃。

3.如权利要求2所述的电容式触摸屏，其特征在于：所述第三功能层为铜合金构成，所述铜合金和铜的复合金属氧化物中至少包含一种耐腐蚀金属；所述第一功能层的膜厚范围为300-500埃，所述第二功能层的膜厚范围为800-1400埃。

4.如权利要求2所述的电容式触摸屏，其特征在于：所述铜的复合金属氧化物中，还包括元素镍，且所述铜的比例为50％至95％，所述镍的比例为49％至4％。