[发明专利]一种用于半导体激光器p面向下封装的热沉及其制作方法有效
| 申请号: | 201410119889.5 | 申请日: | 2014-03-27 |
| 公开(公告)号: | CN103887704A | 公开(公告)日: | 2014-06-25 |
| 发明(设计)人: | 李刚;张松;崔碧峰;徐旭红;赵瑞;计伟 | 申请(专利权)人: | 北京牡丹电子集团有限责任公司 |
| 主分类号: | H01S5/024 | 分类号: | H01S5/024;H01S5/042 |
| 代理公司: | 北京轻创知识产权代理有限公司 11212 | 代理人: | 杨立 |
| 地址: | 100191*** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 用于 半导体激光器 向下 封装 及其 制作方法 | ||
1.一种用于半导体激光器p面向下封装的热沉,其特征在于,包括基体材料层(1)以及分别生长在基体材料层(1)上下表面的上金属层(2)和下金属层(3),所述上金属层(2)由绝缘隔离层分离成各自独立的第一正极电极(4)、第二正极电极(5)和负极电极(6),且所述第一正极电极(4)用于给半导体激光器(7)的脊形波导区提供工作时所需的电信号,所述第二正极电极(5)用于给半导体激光器(7)的锥形增益区提供工作时所需的电信号,所述负极电极(6)连接半导体激光器(7)的n面电极。
2.根据权利要求1所述的热沉,其特征在于,所述基体材料层(1)采用的材料是氮化铝陶瓷、氧化铝陶瓷、氮化硅陶瓷、氧化锆陶瓷、金刚石、碳化硅、氧化铍或氮化硼中的任意一种。
3.根据权利要求1所述的热沉,其特征在于,所述基体材料层(1)的厚度为0.8mm—1mm。
4.根据权利要求1所述的热沉,其特征在于,所述上金属层(2)和所述下金属层(3)采用的材料均为金、钛金、钛铂金或金锗镍金中的任意一种。
5.根据权利要求1所述的热沉,其特征在于,所述第一正极电极(4)通过焊料层(8)与所述半导体激光器(7)的脊形波导区连接,且所述第二正极电极(5)通过焊料层(8)与所述半导体激光器(7)的锥形增益区连接。
6.根据权利要求1所述的热沉,其特征在于,所述负极电极(6)通过键合金线(9)连接所述半导体激光器(7)的n面电极。
7.一种制作如权利要求1-6中任一所述的热沉的方法,其特征在于,包括:
步骤1,制备基体材料层(1),并在基体材料层(1)的上下表面分别生长上金属层(2)和下金属层(3);
步骤2,制备绝缘隔离槽,通过绝缘隔离槽将上金属层(2)分离成各自独立的第一正极电极(4)、第二正极电极(5)和负极电极(6);
步骤3,在第一正极电极(4)和第二正极电极(5)上镀焊料层(8),使第一正极电极(4)通过焊料层(8)与半导体激光器(7)的脊形波导区连接,使第二正极电极(4)通过焊料层(8)与半导体激光器(7)的锥形放大区连接;
步骤4,键合金线(9),使负极电极(6)通过金线(9)连接所述半导体激光器(7)的n面电极。
8.根据权利要求7所述的方法,其特征在于,所述步骤1中,上金属层(2)和下金属层(3)通过溅射技术、热蒸发技术、电子束蒸发技术或离子辅助电子束蒸发技术生长在所述基体材料层(1)的表面。
9.根据权利要求1所述的热沉,其特征在于,所述步骤1中采用氮化铝陶瓷、氧化铝陶瓷、氮化硅陶瓷、氧化锆陶瓷、金刚石、碳化硅、氧化铍或氮化硼制备基体材料层(1),且制备的基体材料层(1)的厚度为0.8mm—1mm;所述步骤1中采用金、钛金、钛铂金或金锗镍金制作所述上金属层(2)和所述下金属层(3)。
10.根据权利要求7所述的方法,其特征在于,所述步骤2中,绝缘隔离槽、第一正极电极(4)、第二正极电极(5)和负极电极(6)的尺寸要保证封装后的半导体激光器(7)的出光面与制作的热沉的边缘严格对齐。
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