[发明专利]基于垂直级联的共面电磁带隙板及其制作方法无效

专利信息
申请号: 201410114350.0 申请日: 2014-03-25
公开(公告)号: CN103874323A 公开(公告)日: 2014-06-18
发明(设计)人: 史凌峰;来新泉;姜宏丰;魏征;王聪睿;高松 申请(专利权)人: 西安电子科技大学
主分类号: H05K1/02 分类号: H05K1/02;H05K3/46
代理公司: 陕西电子工业专利中心 61205 代理人: 王品华;朱红星
地址: 710071*** 国省代码: 陕西;61
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摘要:
搜索关键词: 基于 垂直 级联 共面电 磁带 及其 制作方法
【权利要求书】:

1.一种基于垂直级联的共面电磁带隙板,自上而下包括第一电源层(1)、第一介质层(2)和第一地层(3),其特征在于地层(3)的下方依次为第二介质层(4)、第二地层(5)、第三介质层(6)和第二电源层(7),形成上、下为电源层,中间为两层地层的整体结构。 

2.根据权利要求1所述的基于垂直级联的共面电磁带隙板,其中电源层由M×N个电磁带隙单元连接而成,其中M≥2,N≥2,每个电磁带隙单元均蚀刻成相同的矩形图案。 

3.根据权利要求1所述的基于垂直级联的共面电磁带隙板,其中介质层使用相对介电常数为4.4的绝缘材料。 

4.根据权利要求1所述的基于垂直级联的共面电磁带隙板,其中地层采用金属光板,且大小与电源层大小相同。 

5.一种基于垂直级联的共面电磁带隙板的制作方法,包括如下步骤: 

1)制作上电磁带隙板A; 

1a)采用相对介电常数为4.4的绝缘材料制作第一介质层(2),其厚度为L mm,其中0.1mm≤L≤0.2mm; 

1b)以第一介质层(2)作为基板,在介质层顶层铺设上电源层(1),该上电源层(1)由M×N个电磁带隙单元连接组成,每个电磁带隙单元蚀刻成相同的矩形图案,其中M≥2,N≥2;在介质层底层铺设由金属光板制作的第一地层(3),其大小与上电源层(1)大小相同; 

2)制作下电磁带隙板B; 

2a)采用相对介电常数为4.4的绝缘材料制作第三介质层(6),其厚度为L mm,其中0.1mm≤L≤0.2mm; 

2b)以第三介质层(6)作为基板,在第三介质层(6)的底层铺设下电源层(7), 该下电源层(7)由M×N个电磁带隙单元连接组成,每个电磁带隙单元蚀刻成相同的矩形图案,其中M≥2,N≥2;在第三介质层(6)的顶层铺设由金属光板制作的第二地层(5),其大小与下电源层(7)大小相同; 

3)采用相对介电常数为4.4的绝缘材料制作厚度为H的基板,即第二介质层(4),其中0.3mm≤H≤0.4mm; 

4)将第二介质层(4)置于上电磁带隙板A与下电磁带隙板B之间,并在每个电磁带隙单元中间位置分别添加一个过孔8,过孔8从上到下依次穿过第一介质层(2)、第一地层(3)、第二介质层(4)、第二地层(5)、第三介质层(6),通过这些过孔8将最上层的上电源层(1)与最下层的下电源层(7)连接在一起,完成垂直级联,得到整体电磁带隙板。 

6.根据权利要求5所述的基于垂直级联的共面电磁带隙板的制作方法,其中电磁带隙单元的大小为a×a,且25mm≤a≤30mm;电源层的大小与地层的大小均为b×c,其中,b=M×a,c=N×a;介质层的大小为d×e,且d=b+2,e=c+2。 

7.根据权利要求5所述的基于垂直级联的共面电磁带隙板的制作方法,其中过孔8采用沉铜工艺制作,孔径为r,2mm≤r≤3mm。 

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