[发明专利]硼化合物的制造方法无效
申请号: | 201410113660.0 | 申请日: | 2014-03-25 |
公开(公告)号: | CN104072528A | 公开(公告)日: | 2014-10-01 |
发明(设计)人: | 河村充展 | 申请(专利权)人: | 住友化学株式会社 |
主分类号: | C07F5/02 | 分类号: | C07F5/02 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 金世煜;赵曦 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 化合物 制造 方法 | ||
技术领域
本发明涉及硼化合物的制造方法。
背景技术
在非专利文献1中,作为还原剂,记载了四甲基三乙酰氧基硼氢化铵,作为其制造方法,记载了使四甲基氢化铵与硼氢化钠在水中反应而得到四甲基硼氢化铵,将所得的四甲基硼氢化铵脱水后,在非水体系中与乙酸反应的方法。
现有技术文献
非专利文献
非专利文献1:D.A.Evans,K.T.Chapman,and E.M.Carreira,“Directed Reduction ofβ-Hydroxy Ketones Employing Tetramethylammonium Triacetoxyborohydride”,J Am.Chem.Soc.1988,110,3560-3578
发明内容
寻求一种四甲基三乙酰氧基硼氢化铵等式(3)表示的化合物的新的制造方法。
(式中,R1、R2和R3各自独立地表示碳原子数1~20的烷基,R4表示碳原子数1~20的烷基或者可被取代的苄基。R5表示碳原子数1~20的烷基。)
本发明包含以下的发明。
[1]一种式(3)表示的硼化合物的制造方法,使式(1)表示的化合物与式(2)表示的化合物反应。
(式中,R1、R2和R3各自独立地表示碳原子数1~20的烷基,R4表示碳原子数1~20的烷基或者可具有取代基的苄基。X-表示除氢氧根离子和醇盐离子之外的1价阴离子。)
(式中,R5各自独立地表示碳原子数1~20的烷基,M+表示碱金属离子。)
(式中,R1、R2、R3、R4和R5表示与上述相同的意思。)
[2]根据[1]中记载的制造方法,R4是碳原子数1~20的烷基或者苄基。
[3]根据[1]或[2]中记载的制造方法,通过使式(4)表示的化合物与式(5)表示的化合物反应,得到式(2)表示的化合物,再使所得的式(2)表示的化合物与式(1)表示的化合物反应。
(式中,M+表示碱金属离子。)
(式中,R5表示碳原子数1~20的烷基。)
[4]一种式(3)表示的硼化合物的制造方法,使式(1)表示的化合物、式(4)表示的化合物和式(5)表示的化合物反应。
(式中,R1、R2和R3各自独立地表示碳原子数1~20的烷基,R4表示碳原子数1~20的烷基或者可被取代的苄基。X-表示除氢氧根离子和醇盐离子之外的1价阴离子。)
(式中,M+表示碱金属离子。)
(式中,R5表示碳原子数1~20的烷基。)
(式中,R1、R2、R3、R4和R5表示与上述相同的意思。)
[5]根据[4]中记载的制造方法,R4是碳原子数1~20的烷基或者苄基。
[6]根据[4]或[5]中记载的制造方法,使式(1)表示的化合物、式(4)表示的化合物和式(5)表示的化合物在非水体系中反应。
[7]一种式(3)表示的硼化合物的制造方法,在非水体系中,将式(1)表示的化合物和式(4)表示的化合物混合,向所得的混合物中混合式(5)表示的化合物。
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