[发明专利]一种降低芯片正向工作电压的外延片生长方法在审

专利信息
申请号: 201410110159.9 申请日: 2014-03-24
公开(公告)号: CN103904173A 公开(公告)日: 2014-07-02
发明(设计)人: 周晓龙;白欣娇;王波;潘鹏;王爱民 申请(专利权)人: 同辉电子科技股份有限公司
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00
代理公司: 石家庄国为知识产权事务所 13120 代理人: 张二群
地址: 050200 河北省石*** 国省代码: 河北;13
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摘要:
搜索关键词: 一种 降低 芯片 正向 工作 电压 外延 生长 方法
【权利要求书】:

1.一种降低芯片正向工作电压的外延片生长方法,其特征在于包括如下步骤:外延衬底预烘烤、GaN缓冲层生长、U型GaN层生长、N型GaN层生长、多量子阱发光层优化生长、P型GaN层生长;所述多量子阱发光层优化生长包括减薄势垒层厚度的操作,该操作通过如下方式中的一项或一项以上结合使用实现:1)减少势垒层的生长时间;2)在生长势垒层时降低Ⅲ族源的流量;3)在生长势垒层时加大Ⅴ族源的流量。

2.根据权利要求1所述的一种降低芯片正向工作电压的外延片生长方法,其特征在于单独使用时,1)中减少势垒层的生长时间的具体操作为:势垒层的生长时间的减少量为原生长时间的1/2-1/3。

3.根据权利要求1所述的一种降低芯片正向工作电压的外延片生长方法,其特征在于单独使用时,2)中在生长势垒层时降低Ⅲ族源的流量的具体操作为:Ⅲ族源流量的减少量为原流量的1/4-1/5。

4.根据权利要求1所述的一种降低芯片正向工作电压的外延片生长方法,其特征在于单独使用时,3)中加大Ⅴ族源的流量的具体操作为:Ⅴ族源流量的增加量为原流量的1/8-1/11。

5.根据权利要求1所述的一种降低芯片正向工作电压的外延片生长方法,其特征在于两种方式结合使用时各种方式的具体操作为:1)势垒层的生长时间的减少量为原生长时间的1/4-1/6;2)Ⅲ族源流量的减少量为原流量的1/7-1/8;3)Ⅴ族源流量的增加量为1/13-1/15。

6.根据权利要求1所述的一种降低芯片正向工作电压的外延片生长方法,其特征在于三种方式结合使用时各种方式的具体操作为:1)势垒层的生长时间的减少量为原生长时间的1/6-1/8;2)Ⅲ族源的流量的减少量为1/10-1/12;3)Ⅴ族源流量的增加量为1/16-1/20。

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