[发明专利]浸没式光刻机中浸液传送系统的控制时序的模型匹配方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种控制时序的模型匹配方法，特别是涉及一种浸没式光刻机中浸液传送系统的控制时序的模型匹配方法。

背景技术

光刻机是制造超大规模集成电路的核心装备之一，现代光刻机以光学光刻为主，它利用光学系统把掩膜版上的图形精确地投影并曝光在涂过光刻胶的硅片上。它包括一个激光光源、一个光学系统、一块由芯片图形组成的投影掩膜版、对准系统、机械传动系统和控制系统。

浸没式光刻（Immersion Lithography）设备通过在最后一片投影物镜与硅片之间填充某种高折射率的液体，相对于中间介质为气体的干式光刻机，提高了投影物镜的数值孔径（NA），从而提高了光刻设备的分辨率和焦深。在已提出的下一代光刻机中，浸没式光刻对现有设备改动最小，对现在的干式光刻机具有良好的继承性。目前常采用的方案是局部浸没法，即将液体限制在硅片上方和最后一片投影物镜的下表面之间的局部区域内，并保持稳定连续的液体流动。

从传统光刻到浸没式光刻，浸没式光刻机浸液传送系统的控制系统是实现稳定连续的液体流动的一项关键技术。已有的浸没式光刻机中浸液传送系统都需要考虑系统通讯架构和控制时序问题。控制时序方法能够确保浸没式光刻机中浸液传送系统运行的逻辑性和合理性，实现浸液传送系统故障处理。

传统的系统控制时序设计方法处理方式比较复杂，多是通过开发人员编写大量的重复性例程来解决。现有的系统控制时序的设计方法中，普遍将重心放在如何降低代码的使用量上，从而无法达到有效的降低控制时序的处理复杂度。

发明内容

为了解决浸没式光刻机中浸液传送系统的时序设计问题，本发明的目的在于提供一种浸没式光刻机中浸液传送系统的控制时序的模型匹配方法。

本发明采用的技术方案包括以下步骤：

将浸液传送系统的时序控制过程当作状态机构建符合浸没传送系统时序控制过程的扩展有限状态机模型；通过将接收到的系统信息输入量与扩展有限状态机模型进行匹配，实现对浸没式光刻机浸液传送系统的当前状态、控制时序以及当前状态所对应的下一步控制操作进行同时定位。

所述的扩展有限状态机模型的构建包括：

1.1）根据浸液传送系统整个运行过程中的不同状态建立有限状态集合Q以及各个状态下所对应的控制操作集合C、有限状态判断标识集合QF、控制操作标识集合CF和系统时序标识集合T共五个集合：

有限状态集合，用于描述系统整个运行过程中的不同状态；

控制操作集合，用于描述系统当前状态所对应的控制操作；

有限状态判断标识集合，用于判断系统当前状态的标识；

控制操作标识集合，用于判断系统当前状态所对应的操作是否已完成；

系统时序标志集合，用于判断系统当前运行时序的标识；

1.2）穷举有限状态集合Q、控制操作集合C、有限状态判断标识集合QF、控制操作标识集合CF、系统时序标志集合T；

1.3）在所有状态之间的各个跳转关系下，根据上述有限状态集合Q、控制操作集合C、有限状态判断标识集合QF、控制操作标识集合CF、系统时序标志集合T之间的关系建立符合扩展有限状态机模型的各个实例；

1.4）筛选出重复性的扩展有限状态机模型的实例，调整有限状态判断标识集合QF、控制操作标识集合CF和系统时序标志集合T使得每一个扩展有限状态机模型的实例为唯一；如果无法调整上述的三个集合，则通过增加额外变量标识，使得每一个扩展有限状态机模型的实例为唯一。

所述的将接收到的系统信息输入量与扩展有限状态机模型进行匹配包括：

2.1）将接收到的系统信息输入量进行预判断，如果系统信息输入量需要与扩展有限状态机模型进行匹配，则进行下一步骤；如果不需要匹配，则不进行任何操作；

2.2）将系统信息输入量与所对应的扩展有限状态机模型实例中具有唯一性特征的变量标识或者变量标识集合进行匹配。

所述的模型匹配方法用于浸没式光刻机浸液传送系统下的一个或多个分系统。

所述的扩展有限状态机模型的实例之间采用结构体变量地址和枚举变量地址的寻址方式进行识别。

所述的具有唯一性特征的变量或者变量集合为使得该扩展有限状态机模型的实例为唯一的变量标识或者变量标识集合。

本发明具有的有益效果是：

1.  该设计方法采用的扩展有限状态机模型穷举时序控制系统的状态值，且模型中的每一条实例都是唯一的，能够最大限度的提高代码的执行效率，减少重复性代码的使用量，提升了系统在运行过程中的效率，保证了系统运行的可靠性和有效性。