[发明专利]一种边缘曝光系统和边缘曝光方法

权利要求书

1.一种边缘曝光系统的边缘曝光方法，所述边缘曝光系统，包括照明系统、掩模台、掩模基板、在所述掩模基板上的主掩模、投影物镜、被曝光基板和工件台，还包括遮光狭缝和在所述掩模基板的边缘至少有一个独立的边缘曝光专用图形的副掩模；所述遮光狭缝是可以调整可透光区域的长度或宽度的可变狭缝，所述可透过区域为矩形；其特征在于，所述边缘曝光方法包括如下步骤：

1)所述掩模台运动，使某个所述副掩模图形中心位于所述投影物镜光轴处；

2)所述工件台运动使所述被曝光基板上Y向边缘曝光区位于光轴下，设置所述可变狭缝中心位于投影物镜光轴处，设置所述可变狭缝大小SizeX1，SizeY1,执行X向多次步进曝光，完成Y向两边缘处曝光；

3)所述工件台运动使所述被曝光基板上X向边缘曝光区位于光轴下，设置所述可变狭缝中心位置和所述可透光区域X向大小SizeX2，执行所述工件台和所述可变狭缝同步Y向扫描曝光，完成X向两边缘处曝光。

2.如权利要求1所述的边缘曝光方法，其特征在于，所述步骤2)中X向执行多步曝光，曝光次数EEYxnum＝int(EEY_X/SlitMax_X)+1；其中EEY_X为所述Y向边缘曝光区域X向大小，SlitMax_X为所述可变狭缝X向最大值。

3.如权利要求1所述的边缘曝光方法，其特征在于，所述步骤2)中设置所述可变狭缝大小SizeX1，SizeY1,其中SizeY1设为所述Y向边缘曝光区Y向大小EEY_Y，所述可变狭缝X向大小SizeX1按照曝光次数计算：SizeY1＝EEY_Y；SizeX1＝EEY_X/EEYxnum，其中EEY_X为所述Y向边缘曝光区域X向大小，EEYxnum为步进曝光次数。

4.如权利要求1所述的边缘曝光方法，其特征在于，所述步骤2)中执行X向多次步进曝光，其中X向多次步进曝光对应X向位置设置为Xi＝(i-2)*SizeX1(i＝1,2,3…)。

5.如权利要求1所述的边缘曝光方法，其特征在于，所述步骤3)中所述可变狭缝中心位置设置为所述可变狭缝最大开口边缘处，-(SlitMax_X/2.0+EEX_X/2.0)和(SlitMax_X/2.0+EEX_X/2.0)；其中EEX_X为X向边缘曝光区域X向大小，SlitMax_X为所述可变狭缝X向最大值。

6.如权利要求1所述的边缘曝光方法，其特征在于，所述步骤3)中所述可变狭缝大小SizeX2设置为与X向两边缘区域X向大小EEX_X相同。

7.如权利要求1所述的边缘曝光方法，其特征在于，所述步骤3)中扫描边缘按照对应成像工件台运动行程最小为原则进行对应曝光。