[发明专利]一种电致变色显示器件及其制备方法有效
申请号: | 201410108852.2 | 申请日: | 2014-03-21 |
公开(公告)号: | CN103969905A | 公开(公告)日: | 2014-08-06 |
发明(设计)人: | 徐少颖;侯学成 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | G02F1/153 | 分类号: | G02F1/153;G02F1/155 |
代理公司: | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 变色 显示 器件 及其 制备 方法 | ||
技术领域
本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种电致变色显示器件及其制备方法。
背景技术
电致变色(eletrochromism,简称EC)是指某些材料的光学属性(包括反射率、透过率、吸收率等)在外加电场的作用下发生稳定、可逆变化的现象,其在外观性能上表现为颜色以及透明度的可逆变化。具有电致变色性能的材料被称为电致变色材料,利用该电致变色材料做出的显示器件则被称之为电致变色显示器件。基于电致变色材料的颜色变化持久稳固且仅在颜色变化时需要能量,电致变色显示器件具有着广泛的应用前景。
然而,发明人发现现有技术中至少存在如下问题:以图1或图2所示的现有电致变色显示器件为例,现有技术电致变色显示器件中包括有多个电致变色像素,例如:第一电致变色像素2a以及第二电致变色像素2b;每个电致变色像素包括依次形成在透明基底1上的第一导电层、电致变色层以及第二导电层(例如:第一电致变色像素2a对应的第一导电层21a、电致变色层22a以及第二导电层23a),相邻的电致变色像素之间设置有开口区10(需要说明的是,开口区是指相邻电致变色像素之间,除透明基底外不存在其他膜层结构的区域;当电致变色像素中膜层尺寸发生改变时,开口区也会发生相应变化,如图1或图2所示)。
进一步分析可以发现,由于开口区除透明基底外不存在其他膜层结构,因此开口区会存在漏光现象。在电致变色显示器件显示过程中,如不抑制该漏光,会对电致变色显示器件的显示效果产生不利。
发明内容
本发明所要解决的技术问题在于提供一种电致变色显示器件及其制备方法,可以有效的抑制相邻电致变色像素之间开口区的漏光现象,从而提高了电致变色显示器件的显示效果。
为解决上述技术问题,本发明一种电致变色显示器件采用如下技术方案:
一种电致变色显示器件,所述显示器件包括多个电致变色像素,每个所述电致变色像素包括依次形成在透明基底上的第一导电层、电致变色层、第二导电层,相邻的所述电致变色像素之间设置有开口区,所述开口区设置有薄膜晶体管以及数据电极;
所述薄膜晶体管的栅极、源极、漏极以及所述数据电极的投影覆盖所述开口区,所述薄膜晶体管的栅极、源极、漏极以及所述数据电极由不透光的材质制备。
进一步的,所述不透光的材质为金属。
进一步的,所述薄膜晶体管为顶栅型薄膜晶体管,所述薄膜晶体管的漏极与第一电致变色像素的第一导电层相连,所述薄膜晶体管漏极的投影与所述第一电致变色像素电致变色层的投影相交;
所述数据电极与相邻设置于所述第一电致变色像素的第二电致变色像素的第二导电层相连。
进一步的,所述薄膜晶体管为顶栅型薄膜晶体管,所述薄膜晶体管的漏极与第一电致变色像素的第一导电层相连,所述薄膜晶体管漏极的投影与所述第一电致变色像素电致变色层的投影不相交,所述第一电致变色像素的第二导电层还连接设置有遮蔽电极,所述遮蔽电极的投影覆盖所述第一电致变色像素电致变色层的投影与所述薄膜晶体管漏极的投影之间的间隙;
所述数据电极与相邻设置于所述第一电致变色像素的第二电致变色像素的第二导电层相连。
进一步的,所述薄膜晶体管为底栅型薄膜晶体管,所述薄膜晶体管的漏极与第一电致变色像素的第二导电层相连;
所述数据电极与相邻设置于所述第一电致变色像素的第二电致变色像素的第一导电层相连,所述数据电极的投影与所述第二电致变色像素电致变色层的投影相交。
进一步的,所述薄膜晶体管为底栅型薄膜晶体管,所述薄膜晶体管的漏极与第一电致变色像素的第二导电层相连;
所述数据电极与相邻设置于所述第一电致变色像素的第二电致变色像素的第一导电层相连,所述数据电极的投影与所述第二电致变色像素电致变色层的投影不相交,所述第二电致变色像素的第二导电层还连接设置有遮蔽电极,所述遮蔽电极的投影覆盖所述第二电致变色像素电致变色层的投影与所述数据电极的投影之间的间隙。
优选的,所述数据电极与所述薄膜晶体管的栅极同层制备形成。
优选的,所述遮蔽电极与所述薄膜晶体管的栅极同层制备形成。
优选的,所述遮蔽电极与所述薄膜晶体管的漏极同层制备形成。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201410108852.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:稻谷脱壳机
- 下一篇:病理实物标本一体化处理操作台